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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第430位 93件
(
2012年:第437位 89件)
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第457位 78件
(
2012年:第478位 72件)
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| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5369319 | マイクロリソグラフィ投影露光装置の照明システム | 2013年12月18日 | |
| 特許 5366405 | 遮光瞳を有する高開口率対物光学系 | 2013年12月11日 | |
| 特許 5364192 | 対象物表面の所定の照明領域をEUV照射によって照らすための照明システム | 2013年12月11日 | |
| 特許 5364756 | 粒子光学装置 | 2013年12月11日 | 共同出願 |
| 特許 5366970 | マイクロリソグラフィ投影露光装置 | 2013年12月11日 | |
| 特許 5355699 | 放射線ビームを案内するための光学モジュール | 2013年11月27日 | |
| 特許 5345132 | マイクロリソグラフィ露光装置においてマスクを照明するための照明系 | 2013年11月20日 | |
| 特許 5349697 | 反射光学素子及びEUVリソグラフィ装置を作動させる方法 | 2013年11月20日 | |
| 特許 5337304 | マイクロリソグラフィ投影露光装置及びそこに収容される光学面に関連するパラメータを測定する方法 | 2013年11月 6日 | |
| 特許 5337292 | 光源の変動を測定するためのシステムを備えたEUV照明システム | 2013年11月 6日 | |
| 特許 5337714 | EUV投影露光装置 | 2013年11月 6日 | |
| 特許 5335906 | マイクロリソグラフィ用の照明光学ユニット | 2013年11月 6日 | |
| 特許 5337159 | 結像光学系及びこれを有する投影露光装置 | 2013年11月 6日 | |
| 特許 5329520 | 低角度で入射する補正光を用いる補正光学素子 | 2013年10月30日 | |
| 特許 5325301 | マイクロミラーを駆動する方法及びデバイス | 2013年10月23日 |
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5369319 5366405 5364192 5364756 5366970 5355699 5345132 5349697 5337304 5337292 5337714 5335906 5337159 5329520 5325301
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12月19日(金) - 大阪 大阪市
【大阪会場】 前田知財塾 ~スキルアップ編~ 知財の仕事を、もっと深く、もっと面白く! 第2回 「特許権侵害判断・回避構造の検討」
12月19日(金) - 神奈川 川崎市
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