特許ランキング - 出願人詳細情報 -

カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー

※ ログインすれば出願人(カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2013年出願公開件数ランキング　　　第430位　93件（2012年：第437位　89件）

　■　2013年特許取得件数ランキング　　　第457位　78件（2012年：第478位　72件）

（ランキング更新日：2024年11月29日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年

カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハーの商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日	備考
特表 2013-524492	光学系、露光装置、及び波面補正方法	2013年 6月17日
特表 2013-524497	マスクによって生じる結像収差の補正を用いて投影露光装置を作動させる方法	2013年 6月17日
特表 2013-522918	マイクロリソグラフィ投影露光装置の照明系	2013年 6月13日
特表 2013-520690	マスク検査装置の照明系及び投影対物系	2013年 6月 6日
特開 2013-102225	マイクロリソグラフィ投影露光装置用の照明光学系	2013年 5月23日
特表 2013-518421	反射光学素子を有するマイクロリソグラフィ用の投影露光ツールで使用する光学配置構成	2013年 5月20日	共同出願
特表 2013-518419	マイクロリソグラフィに使用するためのファセットミラー	2013年 5月20日
特開 2013-95659	ＥＵＶリソグラフィ用の光学機構及び該光学機構を構成する方法	2013年 5月20日
特表 2013-518418	光学系の偏光特性を特性決定する構成体及び方法	2013年 5月20日
特開 2013-80933	寄生負荷最小化光学素子モジュール	2013年 5月 2日
特開 2013-80720	粒子光学装置及び荷電粒子ビーム操作方法	2013年 5月 2日	共同出願
特表 2013-514639	複数の反射ファセット要素を有する光学要素	2013年 4月25日
特表 2013-514651	ＥＵＶリソグラフィ用反射マスク	2013年 4月25日
特開 2013-74299	マイクロリソグラフィ投影露光装置	2013年 4月22日
特表 2013-513957	結像光学系	2013年 4月22日

93 件中 46-60 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2013-524492 2013-524497 2013-522918 2013-520690 2013-102225 2013-518421 2013-518419 2013-95659 2013-518418 2013-80933 2013-80720 2013-514639 2013-514651 2013-74299 2013-513957

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハーの知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数