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カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー
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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第383位 96件
（
2013年：第430位 93件）
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第284位 137件
（2013年：第457位 78件）
（ランキング更新日：2024年11月22日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハーの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2014-75610 | マイクロリソグラフィのための投影対物系、投影露光装置、投影露光方法、及び光学補正プレート | 2014年 4月24日 | |
| 特表 2014-510410 | リソグラフィ装置 | 2014年 4月24日 | |
| 特開 2014-64019 | 光学式撮像装置、システムおよび方法 | 2014年 4月10日 | |
| 特表 2014-509071 | マイクロリソグラフィのための投影露光ツールを作動させる方法 | 2014年 4月10日 | |
| 特開 2014-64017 | 投影露光システム用の少なくとも１つの磁石を有するアクチュエータ | 2014年 4月10日 | |
| 特開 2014-59579 | カタディオプトリック投影対物系 | 2014年 4月 3日 | |
| 特開 2014-59584 | 物体視野を像視野に結像するための結像光学系及び物体視野を照明するための照明光学系 | 2014年 4月 3日 | |
| 特表 2014-507786 | 光学素子を取り付ける配置構成 | 2014年 3月27日 | |
| 特表 2014-507015 | 光学マウント及びＥＵＶ露光装置 | 2014年 3月20日 | |
| 特表 2014-506724 | ＥＵＶリソグラフィ用のミラーの基板 | 2014年 3月17日 | |
| 特開 2014-44445 | 中間像を有するカタジオプトリック投影対物レンズ | 2014年 3月13日 | |
| 特開 2014-41134 | 複屈折を測定する測定法及び測定システム | 2014年 3月 6日 | |
| 特開 2014-41379 | 反射コーティングを備えたミラー要素を有する投影対物レンズ | 2014年 3月 6日 | |
| 特表 2014-505368 | マイクロリソグラフィ投影露光装置の照明系 | 2014年 2月27日 | |
| 特開 2014-38350 | マイクロリソグラフィ投影光学システム、装置、及び製造方法 | 2014年 2月27日 |
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2014-75610 2014-510410 2014-64019 2014-509071 2014-64017 2014-59579 2014-59584 2014-507786 2014-507015 2014-506724 2014-44445 2014-41134 2014-41379 2014-505368 2014-38350
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