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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第430位 93件 (2012年:第437位 89件)
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第457位 78件 (2012年:第478位 72件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特許 5323335 | 光学素子ユニット及び光学素子の支持方法 | 2013年10月23日 | |
特許 5319766 | マイクロリソグラフィ投影露光装置の光学系及びマイクロリソグラフィ露光方法 | 2013年10月16日 | |
特許 5319706 | 照明光学系及び投影露光装置 | 2013年10月16日 | |
特許 5317156 | マイクロリソグラフィ投影露光装置の投影対物レンズ | 2013年10月16日 | |
特許 5314193 | 反射光学素子及びその生産方法 | 2013年10月16日 | 共同出願 |
特許 5319789 | 結像光学系及びこの種の結像光学系を有するマイクロリソグラフィ用の投影露光装置 | 2013年10月16日 | |
特許 5308638 | マイクロリソグラフィ投影露光装置用の照明光学系 | 2013年10月 9日 | |
特許 5302450 | 光学面から汚染層を除去するための方法、洗浄ガスを生成するための方法、ならびに対応する洗浄および洗浄ガス生成の構造 | 2013年10月 2日 | 共同出願 |
特許 5307728 | 照射強度分布の測定器および測定方法 | 2013年10月 2日 | |
特許 5299937 | 光近接効果を補正する方法 | 2013年 9月25日 | |
特許 5291002 | 取替可能なダイアフラムを備える結像装置および方法 | 2013年 9月18日 | |
特許 5275444 | EUVマイクロリソグラフィ用の投影照明系 | 2013年 8月28日 | |
特許 5275580 | H2含有量を増加させた合成石英ガラスのレンズを製造するための方法 | 2013年 8月28日 | |
特許 5268333 | EUV投影マイクロリソグラフィのための照明光学、照明系及び投影露光装置並びに微細構造素子を製造する方法 | 2013年 8月21日 | |
特許 5269079 | 反射コーティングを備えたミラー要素を有する投影対物系 | 2013年 8月21日 |
78 件中 16-30 件を表示
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5323335 5319766 5319706 5317156 5314193 5319789 5308638 5302450 5307728 5299937 5291002 5275444 5275580 5268333 5269079
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11月25日(月) -
11月25日(月) - 岐阜 各務原市
11月26日(火) -
11月26日(火) - 東京 港区
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月27日(水) - 東京 港区
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月28日(木) - 東京 港区
11月28日(木) - 島根 松江市
11月28日(木) - 京都 京都市
11月28日(木) -
11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月25日(月) -
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