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■ 2018年 出願公開件数ランキング 第645位 45件
(2017年:第501位 77件)
■ 2018年 特許取得件数ランキング 第367位 75件
(2017年:第394位 68件)
(ランキング更新日:2025年2月21日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6444999 | 分離コーティングを有するミラーの表面補正 | 2018年12月26日 | |
特許 6445501 | マイクロリソグラフィのための投影露光ツールを作動させる方法 | 2018年12月26日 | |
特許 6442492 | ミラー、特にマイクロリソグラフィー投影露光装置用ミラー | 2018年12月19日 | |
特許 6434473 | マイクロリソグラフィ投影露光装置の照明系 | 2018年12月 5日 | |
特許 6429171 | EUV投影リソグラフィのための照明光学ユニット | 2018年11月28日 | |
特許 6429492 | イオンの質量選択判定装置 | 2018年11月28日 | |
特許 6429817 | マイクロリソグラフィのための投影露光ツール及びマイクロリソグラフィ結像の方法 | 2018年11月28日 | |
特許 6422450 | 投影露光装置上で光学的対称性を測定する装置及び方法 | 2018年11月14日 | |
特許 6422496 | 飛翔体の軌跡を求める際に使用する測定装置 | 2018年11月14日 | |
特許 6423419 | 投影露光装置のためのファセットミラー | 2018年11月14日 | |
特許 6420757 | マイクロリソグラフィ装置及びそのような装置において光学波面を変更する方法 | 2018年11月 7日 | |
特許 6420802 | リソグラフィ装置 | 2018年11月 7日 | |
特許 6415434 | EUV投影露光装置用ミラー機構、その操作方法、及びEUV投影露光装置 | 2018年10月31日 | |
特許 6415564 | 光学コンポーネント | 2018年10月31日 | |
特許 6410230 | 結像反射EUV投影光学ユニット | 2018年10月24日 |
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6444999 6445501 6442492 6434473 6429171 6429492 6429817 6422450 6422496 6423419 6420757 6420802 6415434 6415564 6410230
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2月21日(金) - 東京 千代田区
2月21日(金) - 東京 大田
パテントマップを用いた知財戦略の策定方法 -自社が勝つパテントマップ作成と それを活用した開発戦略・知財戦略の実践方法- <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
2月21日(金) -
2月22日(土) - 東京 板橋区
2月21日(金) - 東京 千代田区
2月25日(火) -
2月25日(火) -
2月26日(水) -
2月26日(水) -
2月26日(水) - 東京 港区
2月26日(水) -
2月26日(水) - 千葉 船橋市
2月27日(木) -
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 港区
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 千代田区
2月25日(火) -
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