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■ 2022年 出願公開件数ランキング 第561位 54件
(2021年:第1005位 27件)
■ 2022年 特許取得件数ランキング 第709位 35件
(2021年:第862位 24件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 7194023 | マイクロリソグラフィ照明ユニット | 2022年12月21日 | |
特許 7169377 | フォトリソグラフィ用の要素を検査および/または処理するための装置および方法 | 2022年11月10日 | |
特許 7168627 | 物体マッピング及び/又は瞳マッピングのための光学系 | 2022年11月 9日 | |
特許 7159352 | コンポーネントの位置を周波数に基づいて決定する測定アセンブリ | 2022年10月24日 | |
特許 7141411 | フォトニック集積回路をテストするための装置、装置を含む検査システム、及びフォトニック集積回路をテストするための方法 | 2022年 9月22日 | |
特許 7140854 | 荷電粒子のビームを検査するための方法および装置 | 2022年 9月21日 | |
特許 7140905 | 光学素子の表面形状を評価する方法及び装置 | 2022年 9月21日 | |
特許 7137480 | EUVコレクタ | 2022年 9月14日 | |
特許 7136934 | レーザの出力ビームのスペクトル帯域幅を減少させるための光学アセンブリ | 2022年 9月13日 | |
特許 7132711 | EUV範囲のためのフォトリソグラフィマスクの要素を検査する方法及び装置 | 2022年 9月 7日 | |
特許 7125414 | メトロロジターゲット | 2022年 8月24日 | |
特許 7105247 | 材料除去を決定する方法及びワークのビーム加工装置 | 2022年 7月22日 | |
特許 7100198 | フォトリソグラフィプロセスの要素の欠陥の未知の影響を評価するための方法および装置 | 2022年 7月12日 | |
特許 7098622 | 特にマイクロリソグラフィ投影露光装置のための光学素子 | 2022年 7月11日 | |
特許 7090375 | マイクロリソグラフィのための投影露光方法及び投影露光装置 | 2022年 6月24日 |
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7194023 7169377 7168627 7159352 7141411 7140854 7140905 7137480 7136934 7132711 7125414 7105247 7100198 7098622 7090375
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4月4日(金) -
4月4日(金) -
4月9日(水) -
4月9日(水) -
4月10日(木) - 東京 港区赤坂3-9-1 紀陽ビル4階
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