特許ランキング - 出願人詳細情報 -

カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー

※ ログインすれば出願人(カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2011年出願公開件数ランキング　　　第539位　67件（2010年：第2457位　9件）

　■　2011年特許取得件数ランキング　　　第817位　34件（2010年：第22882位　0件）

（ランキング更新日：2025年4月3日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハーの商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日	備考
特許 4845880	光学結像系の像品質測定システム	2011年12月28日
特許 4846600	マイクロリソグラフィ投射露光装置用照射システム	2011年12月28日
特許 4843503	マイクロリソグラフィ投影露光装置および投影レンズのための測定装置	2011年12月21日
特許 4843272	マイクロリソグラフィ投影露光装置の光学システム	2011年12月21日
特許 4833211	マイクロリソグラフィ用の投影対物レンズ	2011年12月 7日
特許 4825920	光学要素	2011年11月30日
特許 4820074	光源からの放射線のための収束装置	2011年11月24日
特許 4817844	ゼロ転移温度周辺の熱膨張係数に応じて温度の上昇に対する傾きの符号が異なる材料で構成されたミラーを備えたＥＵＶ投影レンズ	2011年11月16日
特許 4818340	低い熱伝導性の熱負荷を受ける本体に対する温度補償装置	2011年11月16日
特許 4804704	特にマイクロリソグラフィ用の照明光学系	2011年11月 2日
特許 4801047	鏡群を有するカタジオプトリック投影対物レンズ	2011年10月26日
特許 4795745	マイクロリソグラフィ用投影露光装置のための照明システム	2011年10月19日
特許 4794444	粒子光学システム及び装置、並びに、かかるシステム及び装置用の粒子光学部品	2011年10月19日	共同出願
特許 4782019	光学系の光学測定のための装置及び方法、測定構造支持材、及びマイクロリソグラフィ投影露光装置	2011年 9月28日
特許 4776551	マイクロリソグラフィ投射露光装置の投射対物レンズ	2011年 9月21日

34 件中 1-15 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

4845880 4846600 4843503 4843272 4833211 4825920 4820074 4817844 4818340 4804704 4801047 4795745 4794444 4782019 4776551

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハーの知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数