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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第539位 67件 (2010年:第2457位 9件)
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第817位 34件 (2010年:第22882位 0件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 4845880 | 光学結像系の像品質測定システム | 2011年12月28日 | |
特許 4846600 | マイクロリソグラフィ投射露光装置用照射システム | 2011年12月28日 | |
特許 4843503 | マイクロリソグラフィ投影露光装置および投影レンズのための測定装置 | 2011年12月21日 | |
特許 4843272 | マイクロリソグラフィ投影露光装置の光学システム | 2011年12月21日 | |
特許 4833211 | マイクロリソグラフィ用の投影対物レンズ | 2011年12月 7日 | |
特許 4825920 | 光学要素 | 2011年11月30日 | |
特許 4820074 | 光源からの放射線のための収束装置 | 2011年11月24日 | |
特許 4817844 | ゼロ転移温度周辺の熱膨張係数に応じて温度の上昇に対する傾きの符号が異なる材料で構成されたミラーを備えたEUV投影レンズ | 2011年11月16日 | |
特許 4818340 | 低い熱伝導性の熱負荷を受ける本体に対する温度補償装置 | 2011年11月16日 | |
特許 4804704 | 特にマイクロリソグラフィ用の照明光学系 | 2011年11月 2日 | |
特許 4801047 | 鏡群を有するカタジオプトリック投影対物レンズ | 2011年10月26日 | |
特許 4795745 | マイクロリソグラフィ用投影露光装置のための照明システム | 2011年10月19日 | |
特許 4794444 | 粒子光学システム及び装置、並びに、かかるシステム及び装置用の粒子光学部品 | 2011年10月19日 | 共同出願 |
特許 4782019 | 光学系の光学測定のための装置及び方法、測定構造支持材、及びマイクロリソグラフィ投影露光装置 | 2011年 9月28日 | |
特許 4776551 | マイクロリソグラフィ投射露光装置の投射対物レンズ | 2011年 9月21日 |
34 件中 1-15 件を表示
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4845880 4846600 4843503 4843272 4833211 4825920 4820074 4817844 4818340 4804704 4801047 4795745 4794444 4782019 4776551
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11月22日(金) -
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11月22日(金) - 東京 港区
11月22日(金) -
11月22日(金) - 大阪 大阪市
11月22日(金) -
11月22日(金) -
11月25日(月) -
11月25日(月) - 岐阜 各務原市
11月26日(火) -
11月26日(火) - 東京 港区
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月27日(水) - 東京 港区
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月28日(木) - 東京 港区
11月28日(木) - 島根 松江市
11月28日(木) - 京都 京都市
11月28日(木) -
11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月25日(月) -
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