ホーム > 特許ランキング > カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー > 2019年 > 特許一覧
※ ログインすれば出願人(カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2019年 出願公開件数ランキング 第696位 45件
(2018年:第645位 45件)
■ 2019年 特許取得件数ランキング 第385位 68件
(2018年:第367位 75件)
(ランキング更新日:2025年4月4日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年
公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 6625120 | セラミックコンポーネント間の圧力嵌め接続用の接続機構 | 2019年12月25日 | |
特許 6625532 | 光学アセンブリ | 2019年12月25日 | |
特許 6626833 | 光学構成要素 | 2019年12月25日 | |
特許 6621915 | 反射光学素子 | 2019年12月18日 | |
特許 6622116 | 結像誤差の決定を行う光学結像装置 | 2019年12月18日 | |
特許 6623156 | EUV投影リソグラフィのための照明系 | 2019年12月18日 | |
特許 6620088 | EUV投影リソグラフィのための照明系及び照明光学ユニット | 2019年12月11日 | |
特許 6620143 | 真空システム、特にEUVリソグラフィシステム、及び光学素子 | 2019年12月11日 | |
特許 6620147 | 真空直線フィードスルー及び当該真空直線フィードスルーを有する真空システム | 2019年12月11日 | |
特許 6612439 | 圧電装置を備える光学結像装置 | 2019年11月27日 | |
特許 6609307 | EUVリソグラフィ用マスク、EUVリソグラフィ装置、及びDUV放射線に起因するコントラスト比を求める方法 | 2019年11月20日 | |
特許 6605736 | 波面解析のデバイス及び方法 | 2019年11月13日 | |
特許 6600312 | ビーム伝播カメラ及び光ビーム解析の方法 | 2019年10月30日 | |
特許 6596419 | 光学装置用支持装置、光学装置及びリソグラフィーシステム | 2019年10月23日 | |
特許 6590829 | マイクロリソグラフィ投影露光装置のミラー | 2019年10月16日 |
69 件中 1-15 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
6625120 6625532 6626833 6621915 6622116 6623156 6620088 6620143 6620147 6612439 6609307 6605736 6600312 6596419 6590829
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハーの知財の動向チェックに便利です。
4月9日(水) -
4月9日(水) -
4月10日(木) - 東京 港区赤坂3-9-1 紀陽ビル4階
【セミナー|知財業界で働くなら知っておくべき】知財部長と代表弁理士が伝える、知財部と事務所の違いとは〈4/10(木)19時~〉
4月11日(金) -
【大阪本社】 〒534-0024 大阪府大阪市都島区東野田町1-20-5 大阪京橋ビル4階 【東京支部】 〒150-0013 東京都港区浜松町2丁目2番15号 浜松町ダイヤビル2F 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国商標 訴訟
〒951-8152 新潟県新潟市中央区信濃町21番7号 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
大阪市天王寺区上本町六丁目9番10号 青山ビル本館3階 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング