ホーム > 特許ランキング > カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー > 2013年 > 特許一覧
カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー
※ ログインすれば出願人(カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2013年 出願公開件数ランキング 第430位 93件
（
2012年：第437位 89件）
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第457位 78件
（2012年：第478位 72件）
（ランキング更新日：2024年11月22日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
2011年 2012年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年
カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハーの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5225075 | マイクロリソグラフィ投影露光装置の光学系 | 2013年 7月 3日 | |
| 特許 5222142 | 粒子光学部品 | 2013年 6月26日 | 共同出願 |
| 特許 5218994 | 複数の１次光源を有する光学要素 | 2013年 6月26日 | |
| 特許 5216015 | 対物レンズ部品を交換する方法及び装置 | 2013年 6月19日 | |
| 特許 5215467 | 低汚染光学装置 | 2013年 6月19日 | |
| 特許 5214031 | 半導体リソグラフィのための投影露光装置における振動減衰方法 | 2013年 6月19日 | |
| 特許 5208266 | 光学アパーチャ装置 | 2013年 6月12日 | |
| 特許 5209880 | 光学的放射の偏光の状態に対する光学系の影響を近似する方法 | 2013年 6月12日 | |
| 特許 5200182 | マイクロリソグラフィ投影露光装置用の照明光学系 | 2013年 5月15日 | |
| 特許 5199068 | 光学エレメント調整組立体 | 2013年 5月15日 | |
| 特許 5193330 | 偏光変調光学素子 | 2013年 5月 8日 | |
| 特許 5193227 | 半導体リソグラフィシステム及びその使用方法 | 2013年 5月 8日 | |
| 特許 5194030 | マイクロリソグラフィ投影露光装置の照明系のマルチミラーアレイを監視するための方法および装置 | 2013年 5月 8日 | |
| 特許 5183955 | 光学エレメントのための保持デバイス | 2013年 4月17日 | |
| 特許 5179077 | 投影露光装置の照明デバイスの光学システム | 2013年 4月10日 |
78 件中 46-60 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
5225075 5222142 5218994 5216015 5215467 5214031 5208266 5209880 5200182 5199068 5193330 5193227 5194030 5183955 5179077
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハーの知財の動向チェックに便利です。
特許ランキング
11月22日(金) -
11月22日(金) - 東京 千代田区
11月22日(金) - 東京 港区
11月22日(金) -
11月22日(金) - 大阪 大阪市
11月22日(金) -
11月22日(金) -
11月25日(月) -
11月25日(月) - 岐阜 各務原市
11月26日(火) -
11月26日(火) - 東京 港区
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月27日(水) - 東京 港区
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月28日(木) - 東京 港区
11月28日(木) - 島根 松江市
11月28日(木) - 京都 京都市
11月28日(木) -
11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月25日(月) -
特許事務所紹介 IP Force 特許事務所紹介
〒460-0008 愛知県名古屋市中区栄一丁目２３番２９号 伏見ポイントビル３Ｆ 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国商標 鑑定 コンサルティング
〒104-0061 東京都中央区銀座1-8-2 銀座プルミエビル8階 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
【大阪本社】 〒534-0024 大阪府大阪市都島区東野田町1-20-5 大阪京橋ビル4階 【東京支部】 〒150-0013 東京都港区浜松町２丁目２番１５号 浜松町ダイヤビル２Ｆ 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国商標 訴訟
