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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第343位 120件
(2011年:第376位 103件)
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第464位 75件
(2011年:第886位 31件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2012-253211 | マスク製造用装置 | 2012年12月20日 | |
特開 2012-253055 | 荷電粒子ビーム描画装置及び描画方法 | 2012年12月20日 | 共同出願 |
特開 2012-251785 | 検査装置および検査方法 | 2012年12月20日 | |
特開 2012-253316 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2012年12月20日 | |
特開 2012-248676 | EUVマスクおよびその製造方法 | 2012年12月13日 | |
特開 2012-248724 | 電子銃、荷電粒子ビーム描画装置及びパーティクルの除去方法 | 2012年12月13日 | |
特開 2012-243968 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2012年12月10日 | |
特開 2012-243921 | 荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法 | 2012年12月10日 | |
特開 2012-243842 | 荷電粒子ビーム描画装置及び描画方法 | 2012年12月10日 | |
特開 2012-243926 | 半導体製造装置及び半導体製造方法 | 2012年12月10日 | |
特開 2012-243939 | 荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法 | 2012年12月10日 | |
特開 2012-243969 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2012年12月10日 | |
特開 2012-243967 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2012年12月10日 | |
特開 2012-241779 | 真空接続装置、荷電粒子ビーム描画装置および排気装置の荷電粒子ビーム描画装置への取付方法 | 2012年12月10日 | |
特開 2012-238761 | DACアンプの評価方法及び荷電粒子ビーム描画装置 | 2012年12月 6日 |
120 件中 1-15 件を表示
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2012-253211 2012-253055 2012-251785 2012-253316 2012-248676 2012-248724 2012-243968 2012-243921 2012-243842 2012-243926 2012-243939 2012-243969 2012-243967 2012-241779 2012-238761
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5月28日(水) - 東京 港区
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5月28日(水) - 東京 中央区
5月28日(水) -
5月28日(水) -
5月29日(木) - 東京 港区
5月29日(木) - 東京 品川区
5月29日(木) - 東京 新宿区
5月29日(木) -
5月29日(木) -
5月30日(金) -
5月30日(金) -
5月28日(水) - 東京 港区
6月4日(水) -
6月4日(水) -
6月4日(水) -
6月5日(木) -
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