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株式会社ニューフレアテクノロジー
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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第343位 120件
（
2011年：第376位 103件）
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第464位 75件
（2011年：第886位 31件）
（ランキング更新日：2024年11月25日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社ニューフレアテクノロジーの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2012-233733 | 検査方法および検査装置 | 2012年11月29日 | |
| 再表 2010-143303 | 転写装置及び転写方法 | 2012年11月22日 | |
| 特開 2012-231188 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2012年11月22日 | |
| 特開 2012-231094 | 荷電粒子ビーム描画装置 | 2012年11月22日 | |
| 特開 2012-216649 | 荷電粒子ビーム描画方法および荷電粒子ビーム描画装置 | 2012年11月 8日 | |
| 特開 2012-211834 | パターン検査装置及びパターン検査方法 | 2012年11月 1日 | |
| 特開 2012-212882 | 半導体製造装置および半導体製造方法 | 2012年11月 1日 | |
| 特開 2012-212793 | 半導体装置の製造方法、描画装置、プログラム及びパターン転写装置 | 2012年11月 1日 | |
| 特開 2012-212829 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2012年11月 1日 | |
| 特開 2012-212774 | 荷電粒子ビーム描画装置の基板ズレ評価方法および荷電粒子ビーム描画システム | 2012年11月 1日 | |
| 特開 2012-212792 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2012年11月 1日 | |
| 特開 2012-212950 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2012年11月 1日 | |
| 特開 2012-209399 | 荷電粒子ビーム描画装置及び描画データの抽出方法 | 2012年10月25日 | |
| 特開 2012-204173 | 電子銃、電子ビーム描画装置および電子銃の脱ガス処理方法 | 2012年10月22日 | |
| 特開 2012-198570 | 半導体装置の製造方法及び露光用マスクへのパターン形成方法 | 2012年10月18日 |
120 件中 16-30 件を表示
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2012-233733 2010-143303 2012-231188 2012-231094 2012-216649 2012-211834 2012-212882 2012-212793 2012-212829 2012-212774 2012-212792 2012-212950 2012-209399 2012-204173 2012-198570
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12月6日(金) -
12月6日(金) - 愛知 豊橋市花田町
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