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株式会社ニューフレアテクノロジー
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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第410位 100件
（
2012年：第343位 120件）
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第439位 82件
（
2012年：第464位 75件）
（ランキング更新日：2025年1月20日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社ニューフレアテクノロジーの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2013-197289 | マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法 | 2013年 9月30日 | |
| 特開 2013-197468 | マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法 | 2013年 9月30日 | |
| 特開 2013-197469 | マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法 | 2013年 9月30日 | |
| 特開 2013-197466 | 荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法 | 2013年 9月30日 | |
| 特開 2013-195958 | 検査装置および検査方法 | 2013年 9月30日 | |
| 特開 2013-191841 | 電子ビーム描画装置および電子ビーム描画方法 | 2013年 9月26日 | |
| 特開 2013-174902 | 半導体装置の製造方法及び露光用マスクへのパターン形成方法 | 2013年 9月 5日 | |
| 特開 2013-171946 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2013年 9月 2日 | |
| 特開 2013-168589 | 電子ビーム描画装置および電子ビーム描画方法 | 2013年 8月29日 | |
| 特開 2013-167608 | 検査装置および検査方法 | 2013年 8月29日 | |
| 特開 2013-165283 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2013年 8月22日 | |
| 特開 2013-161858 | 荷電粒子ビーム描画装置 | 2013年 8月19日 | |
| 特開 2013-162008 | 温度調節システムおよび荷電粒子ビーム描画装置 | 2013年 8月19日 | |
| 特開 2013-157623 | 描画方法及び描画装置 | 2013年 8月15日 | |
| 特開 2013-157637 | 荷電粒子描画システム及び荷電粒子描画装置のパラメータ監視方法 | 2013年 8月15日 |
100 件中 16-30 件を表示
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2013-197289 2013-197468 2013-197469 2013-197466 2013-195958 2013-191841 2013-174902 2013-171946 2013-168589 2013-167608 2013-165283 2013-161858 2013-162008 2013-157623 2013-157637
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