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株式会社ニューフレアテクノロジー
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（
2012年： 件）
■ 2013年 特許取得件数ランキング 件
（2012年： 件）
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株式会社ニューフレアテクノロジーの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5372816 | 成膜装置および成膜方法 | 2013年12月18日 | |
| 特許 5362297 | 荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法 | 2013年12月11日 | |
| 特許 5357530 | 描画用データの処理方法、描画方法、及び描画装置 | 2013年12月 4日 | |
| 特許 5358201 | 成膜方法 | 2013年12月 4日 | |
| 特許 5350523 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2013年11月27日 | |
| 特許 5350121 | パターン検査装置及びパターン検査方法 | 2013年11月27日 | |
| 特許 5349232 | 成膜装置および成膜方法 | 2013年11月20日 | |
| 特許 5344947 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2013年11月20日 | |
| 特許 5349880 | 描画方法 | 2013年11月20日 | |
| 特許 5341706 | 半導体製造装置および半導体製造方法 | 2013年11月13日 | |
| 特許 5340680 | 成膜装置および成膜方法 | 2013年11月13日 | |
| 特許 5342537 | マスク検査装置 | 2013年11月13日 | 共同出願 |
| 特許 5330571 | 描画方法及び描画装置 | 2013年10月30日 | |
| 特許 5314937 | 描画装置及び描画用データの処理方法 | 2013年10月16日 | |
| 特許 5315100 | 描画装置 | 2013年10月16日 |
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5372816 5362297 5357530 5358201 5350523 5350121 5349232 5344947 5349880 5341706 5340680 5342537 5330571 5314937 5315100
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