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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第343位 120件
(2011年:第376位 103件)
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第464位 75件
(2011年:第886位 31件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2012-195571 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2012年10月11日 | |
特開 2012-191087 | 荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法 | 2012年10月 4日 | |
特開 2012-182222 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2012年 9月20日 | |
特開 2012-182506 | パタン作成方法及び荷電粒子ビーム描画装置 | 2012年 9月20日 | |
特開 2012-177650 | パターン検査装置及びパターン検査方法 | 2012年 9月13日 | |
特開 2012-178461 | 荷電粒子ビーム描画装置及び描画方法 | 2012年 9月13日 | |
特開 2012-174812 | 荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法 | 2012年 9月10日 | |
特開 2012-174750 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2012年 9月10日 | |
特開 2012-174780 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2012年 9月10日 | |
特開 2012-173072 | 検査装置および検査方法 | 2012年 9月10日 | |
特開 2012-169291 | 荷電粒子ビームのビーム強度分布測定方法及び荷電粒子ビーム装置 | 2012年 9月 6日 | |
特開 2012-169543 | 半導体製造装置および半導体製造方法 | 2012年 9月 6日 | |
特開 2012-169677 | 描画方法及び描画装置 | 2012年 9月 6日 | |
特開 2012-164977 | 半導体製造装置および半導体製造方法 | 2012年 8月30日 | |
特開 2012-160574 | 荷電粒子ビーム描画装置 | 2012年 8月23日 |
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2012-195571 2012-191087 2012-182222 2012-182506 2012-177650 2012-178461 2012-174812 2012-174750 2012-174780 2012-173072 2012-169291 2012-169543 2012-169677 2012-164977 2012-160574
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特許制度に詳しい方にこそ知って欲しい意匠権の使い方 ~コスパの高い意匠権を使って事業を守る方法を、特許権と比較して解説~
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