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株式会社ニューフレアテクノロジー
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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第473位 74件
（
2013年：第410位 100件）
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第336位 115件
（
2013年：第439位 82件）
（ランキング更新日：2025年1月20日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社ニューフレアテクノロジーの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2014-157953 | 荷電粒子ビーム描画装置、および荷電粒子ビーム描画方法 | 2014年 8月28日 | |
| 特開 2014-146767 | 気相成長装置および気相成長方法 | 2014年 8月14日 | |
| 特開 2014-138050 | 荷電粒子ビーム描画方法 | 2014年 7月28日 | |
| 特開 2014-138175 | 荷電粒子ビーム描画装置、試料面へのビーム入射角調整方法、および荷電粒子ビーム描画方法 | 2014年 7月28日 | |
| 特開 2014-138183 | 荷電粒子ビーム描画方法および荷電粒子ビーム描画装置 | 2014年 7月28日 | |
| 特開 2014-137289 | 検査方法 | 2014年 7月28日 | |
| 特開 2014-137358 | 検査装置 | 2014年 7月28日 | |
| 特開 2014-127540 | 電子線描画方法、電子線描画装置 | 2014年 7月 7日 | |
| 特開 2014-127568 | 荷電粒子ビーム描画装置 | 2014年 7月 7日 | |
| 特開 2014-127569 | マルチ荷電粒子ビーム描画装置 | 2014年 7月 7日 | |
| 特開 2014-123613 | ドリフト補正方法および描画データの作成方法 | 2014年 7月 3日 | |
| 特開 2014-120495 | 荷電粒子ビーム描画方法、荷電粒子ビーム描画プログラムおよび荷電粒子ビーム描画装置 | 2014年 6月30日 | |
| 特開 2014-120630 | 荷電粒子ビーム描画装置、面積密度データの作成方法及びショット数データの作成方法 | 2014年 6月30日 | |
| 特開 2014-116356 | 半導体製造方法及び半導体製造装置 | 2014年 6月26日 | |
| 特開 2014-112639 | マルチ荷電粒子ビーム描画方法及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置 | 2014年 6月19日 |
74 件中 31-45 件を表示
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2014-157953 2014-146767 2014-138050 2014-138175 2014-138183 2014-137289 2014-137358 2014-127540 2014-127568 2014-127569 2014-123613 2014-120495 2014-120630 2014-116356 2014-112639
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