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株式会社ニューフレアテクノロジー
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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第473位 74件
（
2013年：第410位 100件）
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第336位 115件
（
2013年：第439位 82件）
（ランキング更新日：2025年1月31日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社ニューフレアテクノロジーの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5646207 | 成膜装置および成膜方法 | 2014年12月24日 | 共同出願 |
| 特許 5643618 | 高さ測定方法および荷電粒子ビーム描画装置 | 2014年12月17日 | |
| 特許 5639104 | 成膜装置 | 2014年12月10日 | 共同出願 |
| 特許 5636238 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2014年12月 3日 | |
| 特許 5636460 | 描画方法及び描画装置 | 2014年12月 3日 | |
| 特許 5635240 | 校正ブロック及び荷電粒子ビーム描画装置 | 2014年12月 3日 | |
| 特許 5635309 | 検査装置および検査方法 | 2014年12月 3日 | |
| 特許 5631151 | 描画データの製造方法 | 2014年11月26日 | |
| 特許 5631068 | 荷電粒子ビーム描画装置 | 2014年11月26日 | |
| 特許 5620725 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2014年11月 5日 | |
| 特許 5615102 | 半導体製造方法及び半導体製造装置 | 2014年10月29日 | |
| 特許 5615531 | 荷電粒子ビーム描画用データの生成方法 | 2014年10月29日 | |
| 特許 5616674 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2014年10月29日 | |
| 特許 5607907 | 荷電粒子ビーム描画装置 | 2014年10月15日 | |
| 特許 5607413 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2014年10月15日 |
115 件中 1-15 件を表示
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5646207 5643618 5639104 5636238 5636460 5635240 5635309 5631151 5631068 5620725 5615102 5615531 5616674 5607907 5607413
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