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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第376位 103件
(2010年:第347位 127件)
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第886位 31件
(2010年:第2005位 9件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2011-128376 | レーザ装置の出力調整方法、レーザ装置および検査装置 | 2011年 6月30日 | |
特開 2011-129624 | 荷電粒子ビーム描画装置の故障診断方法 | 2011年 6月30日 | |
特開 2011-105999 | ヒータの製造方法および成膜装置 | 2011年 6月 2日 | |
特開 2011-108968 | 荷電粒子ビーム描画装置およびその帯電効果補正方法 | 2011年 6月 2日 | |
特開 2011-108830 | 荷電粒子ビーム描画装置 | 2011年 6月 2日 | |
特開 2011-109042 | 荷電粒子ビーム描画用データの生成方法 | 2011年 6月 2日 | |
特開 2011-108954 | 温度調節システムおよびこれを用いた荷電粒子ビーム描画装置 | 2011年 6月 2日 | |
特開 2011-105564 | 成膜装置および成膜方法 | 2011年 6月 2日 | |
特開 2011-106007 | 成膜装置および成膜方法 | 2011年 6月 2日 | |
特開 2011-108936 | 半導体製造装置及び半導体製造方法 | 2011年 6月 2日 | |
特開 2011-108967 | ナノインプリント用のテンプレートの製造方法 | 2011年 6月 2日 | |
特開 2011-100818 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2011年 5月19日 | |
特開 2011-91171 | 荷電粒子ビーム描画方法および荷電粒子ビーム描画装置システム | 2011年 5月 6日 | |
特開 2011-86876 | 荷電粒子ビーム分解能測定方法および荷電粒子ビーム描画装置 | 2011年 4月28日 | |
特開 2011-85536 | レビュー装置および検査装置システム | 2011年 4月28日 |
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2011-128376 2011-129624 2011-105999 2011-108968 2011-108830 2011-109042 2011-108954 2011-105564 2011-106007 2011-108936 2011-108967 2011-100818 2011-91171 2011-86876 2011-85536
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