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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第343位 120件 (2011年:第376位 103件)
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第464位 75件 (2011年:第886位 31件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2012-160574 | 荷電粒子ビーム描画装置 | 2012年 8月23日 | |
特開 2012-155860 | 荷電粒子銃および荷電粒子ビーム描画装置 | 2012年 8月16日 | |
特開 2012-151371 | 荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法 | 2012年 8月 9日 | |
特開 2012-151345 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2012年 8月 9日 | |
特開 2012-150036 | 照明装置、パターン検査装置及び照明光の形成方法 | 2012年 8月 9日 | |
特開 2012-151314 | 電子ビーム描画装置および電子ビーム描画装置の評価方法 | 2012年 8月 9日 | |
特開 2012-147010 | 荷電粒子ビーム描画装置 | 2012年 8月 2日 | |
特開 2012-141249 | 回転制御装置及び回転制御方法 | 2012年 7月26日 | |
特開 2012-142328 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画処理の再現方法 | 2012年 7月26日 | |
特開 2012-134213 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2012年 7月12日 | |
特開 2012-134205 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2012年 7月12日 | |
特開 2012-129479 | 荷電粒子ビーム描画装置および描画データ生成方法 | 2012年 7月 5日 | |
特開 2012-127856 | パターン検査装置およびパターン検査方法 | 2012年 7月 5日 | |
特開 2012-124411 | 半導体製造装置および半導体製造方法 | 2012年 6月28日 | |
特開 2012-122773 | 検査装置および検査方法 | 2012年 6月28日 |
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2012-160574 2012-155860 2012-151371 2012-151345 2012-150036 2012-151314 2012-147010 2012-141249 2012-142328 2012-134213 2012-134205 2012-129479 2012-127856 2012-124411 2012-122773
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2月4日(火) - 東京 港区
2月4日(火) - 神奈川 川崎市
2月4日(火) -
2月4日(火) -
2月5日(水) - 東京 港区
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月6日(木) - 東京 港区
2月6日(木) -
2月7日(金) -
2月7日(金) - 東京 港区
2月7日(金) - 神奈川 横浜市
2月7日(金) -
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