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株式会社ニューフレアテクノロジー
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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第410位 100件
（
2012年：第343位 120件）
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第439位 82件
（
2012年：第464位 75件）
（ランキング更新日：2025年1月20日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社ニューフレアテクノロジーの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2013-115373 | 荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法 | 2013年 6月10日 | |
| 特開 2013-115304 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2013年 6月10日 | |
| 特開 2013-110237 | 荷電粒子ビーム描画装置、パターン検査装置及びレイアウト表示方法 | 2013年 6月 6日 | |
| 特開 2013-98271 | 成膜方法および成膜装置 | 2013年 5月20日 | |
| 特開 2013-98340 | 成膜装置および成膜方法 | 2013年 5月20日 | |
| 特開 2013-93566 | マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法 | 2013年 5月16日 | |
| 特開 2013-89838 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2013年 5月13日 | |
| 特開 2013-89839 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2013年 5月13日 | |
| 特開 2013-84943 | 成膜装置および成膜方法 | 2013年 5月 9日 | |
| 特開 2013-80951 | 荷電ビーム描画装置及び荷電ビーム描画装置の設計方法 | 2013年 5月 2日 | |
| 特開 2013-77778 | 荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法 | 2013年 4月25日 | |
| 特開 2013-77847 | 荷電粒子ビーム描画方法および荷電粒子ビーム描画装置 | 2013年 4月25日 | |
| 特開 2013-76857 | フォトマスク製造方法および荷電粒子ビーム描画方法 | 2013年 4月25日 | |
| 特開 2013-77683 | レチクルの支持機構および検査装置 | 2013年 4月25日 | |
| 特開 2013-77703 | 荷電粒子ビーム描画方法 | 2013年 4月25日 |
100 件中 46-60 件を表示
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2013-115373 2013-115304 2013-110237 2013-98271 2013-98340 2013-93566 2013-89838 2013-89839 2013-84943 2013-80951 2013-77778 2013-77847 2013-76857 2013-77683 2013-77703
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