ホーム > 特許ランキング > 株式会社ニューフレアテクノロジー > 2011年 > 出願公開一覧
※ ログインすれば出願人(株式会社ニューフレアテクノロジー)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2011年 出願公開件数ランキング 第376位 103件
(2010年:第347位 127件)
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第886位 31件
(2010年:第2005位 9件)
(ランキング更新日:2025年6月6日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年
公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2011-85536 | レビュー装置および検査装置システム | 2011年 4月28日 | |
特開 2011-74466 | 成膜装置および成膜方法 | 2011年 4月14日 | |
特開 2011-77313 | 荷電粒子ビーム描画装置およびその描画データ作成方法 | 2011年 4月14日 | |
特開 2011-77180 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビームのアライメント方法 | 2011年 4月14日 | |
特開 2011-63860 | 成膜装置および成膜方法 | 2011年 3月31日 | |
特開 2011-63859 | 成膜装置および成膜方法 | 2011年 3月31日 | |
特開 2011-66225 | 半導体製造方法 | 2011年 3月31日 | |
特開 2011-66264 | 荷電粒子ビーム描画装置およびその近接効果補正方法 | 2011年 3月31日 | |
特開 2011-66035 | 荷電粒子ビーム描画方法及び荷電粒子ビーム描画装置 | 2011年 3月31日 | |
特開 2011-66249 | 荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法 | 2011年 3月31日 | |
特開 2011-66247 | 荷電粒子ビーム描画装置 | 2011年 3月31日 | |
特開 2011-66215 | 荷電粒子ビーム描画装置および方法 | 2011年 3月31日 | |
特開 2011-66054 | 荷電粒子ビーム描画装置 | 2011年 3月31日 | |
特開 2011-66248 | 荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法 | 2011年 3月31日 | |
特開 2011-66036 | 荷電粒子ビーム描画方法及び荷電粒子ビーム描画装置 | 2011年 3月31日 |
103 件中 61-75 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
2011-85536 2011-74466 2011-77313 2011-77180 2011-63860 2011-63859 2011-66225 2011-66264 2011-66035 2011-66249 2011-66247 2011-66215 2011-66054 2011-66248 2011-66036
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。株式会社ニューフレアテクノロジーの知財の動向チェックに便利です。
6月6日(金) -
6月6日(金) -
6月10日(火) -
6月10日(火) -
6月11日(水) -
6月11日(水) -
6月12日(木) -
6月12日(木) -
6月13日(金) -
6月13日(金) -
6月13日(金) -
6月10日(火) -
東京都新宿区四谷2-12-5 四谷ISYビル3階 PDI特許商標事務所内 特許・実用新案 訴訟 鑑定 コンサルティング
〒543-0014 大阪市天王寺区玉造元町2番32-1301 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
〒220-0004 横浜市西区北幸1-5-10 JPR横浜ビル8階 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング