特許ランキング - 出願人詳細情報 -

株式会社ニューフレアテクノロジー

※ ログインすれば出願人(株式会社ニューフレアテクノロジー)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2011年出願公開件数ランキング　　　第376位　103件（2010年：第347位　127件）

　■　2011年特許取得件数ランキング　　　第886位　31件（2010年：第2005位　9件）

（ランキング更新日：2025年5月30日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

株式会社ニューフレアテクノロジーの商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日
特開 2011-85536	レビュー装置および検査装置システム	2011年 4月28日
特開 2011-74466	成膜装置および成膜方法	2011年 4月14日
特開 2011-77313	荷電粒子ビーム描画装置およびその描画データ作成方法	2011年 4月14日
特開 2011-77180	荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビームのアライメント方法	2011年 4月14日
特開 2011-63860	成膜装置および成膜方法	2011年 3月31日
特開 2011-63859	成膜装置および成膜方法	2011年 3月31日
特開 2011-66225	半導体製造方法	2011年 3月31日
特開 2011-66264	荷電粒子ビーム描画装置およびその近接効果補正方法	2011年 3月31日
特開 2011-66035	荷電粒子ビーム描画方法及び荷電粒子ビーム描画装置	2011年 3月31日
特開 2011-66249	荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法	2011年 3月31日
特開 2011-66247	荷電粒子ビーム描画装置	2011年 3月31日
特開 2011-66215	荷電粒子ビーム描画装置および方法	2011年 3月31日
特開 2011-66054	荷電粒子ビーム描画装置	2011年 3月31日
特開 2011-66248	荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法	2011年 3月31日
特開 2011-66036	荷電粒子ビーム描画方法及び荷電粒子ビーム描画装置	2011年 3月31日

103 件中 61-75 件を表示

... 5

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2011-85536 2011-74466 2011-77313 2011-77180 2011-63860 2011-63859 2011-66225 2011-66264 2011-66035 2011-66249 2011-66247 2011-66215 2011-66054 2011-66248 2011-66036

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。株式会社ニューフレアテクノロジーの知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数