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株式会社ニューフレアテクノロジー

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  2012年 出願公開件数ランキング    第343位 120件 上昇2011年:第376位 103件)

  2012年 特許取得件数ランキング    第464位 75件 上昇2011年:第886位 31件)

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公報番号発明の名称公報発行日備考
特開 2012-124027 電子銃のコンディショニング方法および電子線描画装置 2012年 6月28日
特開 2012-119484 荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法 2012年 6月21日
特開 2012-114124 高さ測定方法および荷電粒子ビーム描画装置 2012年 6月14日
特開 2012-114127 荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法 2012年 6月14日
特開 2012-114105 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 2012年 6月14日
特開 2012-107979 高さ測定方法および電子ビーム描画装置 2012年 6月 7日
特開 2012-109483 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 2012年 6月 7日
特開 2012-109428 インプリント・リソグラフィ用マスク 2012年 6月 7日
特開 2012-109484 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 2012年 6月 7日
特開 2012-109482 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 2012年 6月 7日
特開 2012-99770 レジストパターンの評価方法 2012年 5月24日
特開 2012-94744 ステージ装置およびこれを用いた電子ビーム描画装置 2012年 5月17日
特開 2012-89693 描画データの製造方法 2012年 5月10日
特開 2012-84659 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 2012年 4月26日
特開 2012-77924 除害装置および半導体製造装置 2012年 4月19日

120 件中 61-75 件を表示

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2012-124027 2012-119484 2012-114124 2012-114127 2012-114105 2012-107979 2012-109483 2012-109428 2012-109484 2012-109482 2012-99770 2012-94744 2012-89693 2012-84659 2012-77924

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