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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第343位 120件
(2011年:第376位 103件)
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第464位 75件
(2011年:第886位 31件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2012-124027 | 電子銃のコンディショニング方法および電子線描画装置 | 2012年 6月28日 | |
特開 2012-119484 | 荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法 | 2012年 6月21日 | |
特開 2012-114124 | 高さ測定方法および荷電粒子ビーム描画装置 | 2012年 6月14日 | |
特開 2012-114127 | 荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法 | 2012年 6月14日 | |
特開 2012-114105 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2012年 6月14日 | |
特開 2012-107979 | 高さ測定方法および電子ビーム描画装置 | 2012年 6月 7日 | |
特開 2012-109483 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2012年 6月 7日 | |
特開 2012-109428 | インプリント・リソグラフィ用マスク | 2012年 6月 7日 | |
特開 2012-109484 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2012年 6月 7日 | |
特開 2012-109482 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2012年 6月 7日 | |
特開 2012-99770 | レジストパターンの評価方法 | 2012年 5月24日 | |
特開 2012-94744 | ステージ装置およびこれを用いた電子ビーム描画装置 | 2012年 5月17日 | |
特開 2012-89693 | 描画データの製造方法 | 2012年 5月10日 | |
特開 2012-84659 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2012年 4月26日 | |
特開 2012-77924 | 除害装置および半導体製造装置 | 2012年 4月19日 |
120 件中 61-75 件を表示
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2012-124027 2012-119484 2012-114124 2012-114127 2012-114105 2012-107979 2012-109483 2012-109428 2012-109484 2012-109482 2012-99770 2012-94744 2012-89693 2012-84659 2012-77924
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2月20日(木) - 東京 港区
2月20日(木) -
2月20日(木) -
2月20日(木) - 東京 千代田区
2月21日(金) - 東京 千代田区
2月21日(金) - 東京 大田
パテントマップを用いた知財戦略の策定方法 -自社が勝つパテントマップ作成と それを活用した開発戦略・知財戦略の実践方法- <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
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2月25日(火) -
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2月26日(水) -
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2月26日(水) -
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2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 港区
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 千代田区
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