特許ランキング - 出願人詳細情報 -

株式会社ニューフレアテクノロジー

※ ログインすれば出願人(株式会社ニューフレアテクノロジー)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2012年出願公開件数ランキング　　　第343位　120件（2011年：第376位　103件）

　■　2012年特許取得件数ランキング　　　第464位　75件（2011年：第886位　31件）

（ランキング更新日：2025年5月30日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

株式会社ニューフレアテクノロジーの商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日
特開 2012-124027	電子銃のコンディショニング方法および電子線描画装置	2012年 6月28日
特開 2012-119484	荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法	2012年 6月21日
特開 2012-114124	高さ測定方法および荷電粒子ビーム描画装置	2012年 6月14日
特開 2012-114127	荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法	2012年 6月14日
特開 2012-114105	荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法	2012年 6月14日
特開 2012-107979	高さ測定方法および電子ビーム描画装置	2012年 6月 7日
特開 2012-109483	荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法	2012年 6月 7日
特開 2012-109428	インプリント・リソグラフィ用マスク	2012年 6月 7日
特開 2012-109484	荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法	2012年 6月 7日
特開 2012-109482	荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法	2012年 6月 7日
特開 2012-99770	レジストパターンの評価方法	2012年 5月24日
特開 2012-94744	ステージ装置およびこれを用いた電子ビーム描画装置	2012年 5月17日
特開 2012-89693	描画データの製造方法	2012年 5月10日
特開 2012-84659	荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法	2012年 4月26日
特開 2012-77924	除害装置および半導体製造装置	2012年 4月19日

120 件中 61-75 件を表示

... 5

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2012-124027 2012-119484 2012-114124 2012-114127 2012-114105 2012-107979 2012-109483 2012-109428 2012-109484 2012-109482 2012-99770 2012-94744 2012-89693 2012-84659 2012-77924

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。株式会社ニューフレアテクノロジーの知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数