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株式会社ニューフレアテクノロジー
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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第410位 100件
（
2012年：第343位 120件）
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第439位 82件
（
2012年：第464位 75件）
（ランキング更新日：2025年1月20日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社ニューフレアテクノロジーの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2013-74207 | 荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法 | 2013年 4月22日 | |
| 特開 2013-72845 | パターン検査装置及びパターン検査方法 | 2013年 4月22日 | |
| 特開 2013-74130 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2013年 4月22日 | |
| 特開 2013-74253 | 荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法 | 2013年 4月22日 | 共同出願 |
| 特開 2013-74213 | 成膜装置および成膜方法 | 2013年 4月22日 | 共同出願 |
| 特開 2013-74190 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2013年 4月22日 | |
| 特開 2013-69847 | 荷電粒子ビーム装置および荷電粒子ビーム描画装置 | 2013年 4月18日 | |
| 特開 2013-68962 | 半導体装置の製造方法及び露光用マスクへのパターン形成方法 | 2013年 4月18日 | |
| 特開 2013-64632 | 位置ずれマップ作成装置、パターン検査システム、及び位置ずれマップ作成方法 | 2013年 4月11日 | |
| 特開 2013-65792 | ヒータおよび成膜装置 | 2013年 4月11日 | |
| 特開 2013-58699 | 荷電粒子ビーム描画装置の評価方法及び荷電粒子ビーム描画装置 | 2013年 3月28日 | |
| 特開 2013-55145 | マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法 | 2013年 3月21日 | |
| 特開 2013-55144 | マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法 | 2013年 3月21日 | |
| 特開 2013-51229 | 荷電粒子ビーム描画装置及びブランキングタイミングの調整方法 | 2013年 3月14日 | |
| 特開 2013-51350 | 気相成長方法及び気相成長装置 | 2013年 3月14日 |
100 件中 61-75 件を表示
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2013-74207 2013-72845 2013-74130 2013-74253 2013-74213 2013-74190 2013-69847 2013-68962 2013-64632 2013-65792 2013-58699 2013-55145 2013-55144 2013-51229 2013-51350
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