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株式会社ニューフレアテクノロジー
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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第473位 74件
（
2013年：第410位 100件）
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第336位 115件
（
2013年：第439位 82件）
（ランキング更新日：2025年1月20日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社ニューフレアテクノロジーの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2014-41081 | 欠陥検出方法 | 2014年 3月 6日 | |
| 特開 2014-41952 | セトリング時間の取得方法 | 2014年 3月 6日 | |
| 特開 2014-41862 | 荷電粒子ビーム補正方法および荷電粒子ビーム描画装置 | 2014年 3月 6日 | |
| 特開 2014-38945 | ビームドリフトの補正間隔パターンの設定方法、荷電粒子ビーム描画装置の部品メンテナンスの実施時期判定方法、及び荷電粒子ビーム描画装置 | 2014年 2月27日 | |
| 特開 2014-38203 | 転写用基板の作成方法、転写用基板 | 2014年 2月27日 | |
| 特開 2014-33075 | 荷電粒子ビーム描画装置及びパターン検査装置 | 2014年 2月20日 | |
| 特開 2014-33074 | 荷電粒子ビーム描画装置及びパターン検査装置 | 2014年 2月20日 | |
| 特開 2014-20950 | パターン検査装置 | 2014年 2月 3日 | 共同出願 |
| 特開 2014-17391 | 荷電粒子ビーム描画装置及び多重描画用の荷電粒子ビームの照射時間振り分け方法 | 2014年 1月30日 | |
| 特開 2014-11374 | マスク描画方法、マスク描画装置 | 2014年 1月20日 | |
| 特開 2014-7231 | 荷電粒子ビーム描画装置 | 2014年 1月16日 | |
| 特開 2014-7379 | マルチ荷電粒子ビーム描画方法及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置 | 2014年 1月16日 | |
| 特開 2014-6223 | 検査方法および検査装置 | 2014年 1月16日 | |
| 特開 2014-3180 | ドリフト補正方法および描画データの作成方法 | 2014年 1月 9日 |
74 件中 61-74 件を表示
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2014-41081 2014-41952 2014-41862 2014-38945 2014-38203 2014-33075 2014-33074 2014-20950 2014-17391 2014-11374 2014-7231 2014-7379 2014-6223 2014-3180
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