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株式会社ニューフレアテクノロジー
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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第410位 100件
（
2012年：第343位 120件）
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第439位 82件
（
2012年：第464位 75件）
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株式会社ニューフレアテクノロジーの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2013-51351 | 気相成長装置及び気相成長方法 | 2013年 3月14日 | |
| 特開 2013-51350 | 気相成長方法及び気相成長装置 | 2013年 3月14日 | |
| 特開 2013-48262 | サセプタ、半導体製造装置及び半導体製造方法 | 2013年 3月 7日 | |
| 特開 2013-45799 | 成膜装置および成膜方法 | 2013年 3月 4日 | |
| 特開 2013-45876 | ショットデータの作成方法、荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2013年 3月 4日 | |
| 特開 2013-40873 | パターン検査装置及びパターン検査方法 | 2013年 2月28日 | |
| 特開 2013-42031 | 荷電粒子ビーム描画装置及び試料ずれ検出方法 | 2013年 2月28日 | |
| 特開 2013-42092 | 薄膜処理方法 | 2013年 2月28日 | 共同出願 |
| 特開 2013-38225 | 成膜装置および成膜方法 | 2013年 2月21日 | |
| 特開 2013-38397 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2013年 2月21日 | |
| 特開 2013-38297 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2013年 2月21日 | |
| 再表 2011-36801 | 電子ビーム記録装置 | 2013年 2月14日 | |
| 特開 2013-30758 | 成膜装置および成膜方法 | 2013年 2月 7日 | 共同出願 |
| 特開 2013-26364 | 気相成長方法及び気相成長装置 | 2013年 2月 4日 | |
| 特開 2013-26489 | 温度調整用マスク及び荷電粒子ビーム描画装置の温度調整方法 | 2013年 2月 4日 |
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2013-51351 2013-51350 2013-48262 2013-45799 2013-45876 2013-40873 2013-42031 2013-42092 2013-38225 2013-38397 2013-38297 2011-36801 2013-30758 2013-26364 2013-26489
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