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株式会社ニューフレアテクノロジー
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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第376位 103件
（
2010年：第347位 127件）
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第886位 31件
（
2010年：第2005位 9件）
（ランキング更新日：2025年2月17日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社ニューフレアテクノロジーの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2011-40466 | 荷電粒子ビーム描画装置、偏向器間のタイミング調整方法、及び偏向アンプの故障検出方法 | 2011年 2月24日 | |
| 特開 2011-40450 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2011年 2月24日 | |
| 特開 2011-39012 | 検査装置 | 2011年 2月24日 | 共同出願 |
| 特開 2011-33932 | 荷電粒子ビーム描画装置および方法 | 2011年 2月17日 | |
| 特開 2011-35298 | 荷電粒子ビーム描画方法および荷電粒子ビーム描画装置 | 2011年 2月17日 | |
| 特開 2011-23522 | 半導体製造装置および半導体製造方法 | 2011年 2月 3日 | |
| 特開 2011-21253 | 成膜装置 | 2011年 2月 3日 | |
| 特開 2011-23564 | 荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画データ作成装置 | 2011年 2月 3日 | |
| 特開 2011-22581 | 電子ビーム・マスク描画装置及びディジタル・アナログ変換／アンプ回路のテスト方法 | 2011年 2月 3日 | |
| 特開 2011-23551 | ステージ駆動装置 | 2011年 2月 3日 | |
| 特開 2011-23542 | 荷電粒子ビーム描画方法および装置 | 2011年 2月 3日 | |
| 特開 2011-14630 | 基板カバー着脱機構、基板カバー着脱方法および描画装置 | 2011年 1月20日 | |
| 特開 2011-9500 | 半導体製造方法および半導体製造装置 | 2011年 1月13日 |
103 件中 91-103 件を表示
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2011-40466 2011-40450 2011-39012 2011-33932 2011-35298 2011-23522 2011-21253 2011-23564 2011-22581 2011-23551 2011-23542 2011-14630 2011-9500
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2月18日(火) -
2月19日(水) - 東京 港区
2月19日(水) -
2月19日(水) -
2月19日(水) -
2月19日(水) -
2月19日(水) -
2月19日(水) -
2月19日(水) -
2月20日(木) - 東京 港区
2月20日(木) -
2月20日(木) -
2月20日(木) - 東京 千代田区
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パテントマップを用いた知財戦略の策定方法 －自社が勝つパテントマップ作成と それを活用した開発戦略・知財戦略の実践方法－ ＜東京会場受講（対面）／Zoomオンライン受講 選択可＞ ＜見逃し視聴選択可＞
2月21日(金) -
2月22日(土) - 東京 板橋区
2月17日(月) - 大阪 大阪市
（オンライン参加可）体験談から学ぶ知的財産権 その時どうする？～海外で商標権がバッティング？オープンファクトリーの知財リスク？～
2月25日(火) -
2月25日(火) -
2月26日(水) -
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2月26日(水) - 東京 港区
2月26日(水) -
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2月27日(木) -
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2月27日(木) - 東京 港区
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 千代田区
2月25日(火) -
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