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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第343位 120件 (2011年:第376位 103件)
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第464位 75件 (2011年:第886位 31件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2012-54362 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2012年 3月15日 | |
特開 2012-54361 | 荷電粒子ビーム描画装置およびその照射量補正方法 | 2012年 3月15日 | |
特開 2012-54360 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2012年 3月15日 | |
特開 2012-54076 | 電子銃のコンディショニング方法および電子ビーム描画装置 | 2012年 3月15日 | |
特開 2012-49339 | 成膜装置および成膜方法 | 2012年 3月 8日 | |
特開 2012-49316 | 成膜装置および成膜方法 | 2012年 3月 8日 | |
特開 2012-49239 | 荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法 | 2012年 3月 8日 | |
特開 2012-44195 | 気相成長方法 | 2012年 3月 1日 | |
特開 2012-43988 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2012年 3月 1日 | |
特開 2012-43987 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2012年 3月 1日 | |
特開 2012-43972 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2012年 3月 1日 | |
特開 2012-44051 | DACアンプ診断装置、荷電粒子ビーム描画装置及びDACアンプ診断方法 | 2012年 3月 1日 | |
特開 2012-44044 | 荷電粒子ビーム描画方法 | 2012年 3月 1日 | |
特開 2012-38858 | 電子銃のコンディショニング方法および電子ビーム描画装置 | 2012年 2月23日 | |
特開 2012-33775 | サセプタの処理方法および半導体製造装置の処理方法 | 2012年 2月16日 |
120 件中 91-105 件を表示
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2012-54362 2012-54361 2012-54360 2012-54076 2012-49339 2012-49316 2012-49239 2012-44195 2012-43988 2012-43987 2012-43972 2012-44051 2012-44044 2012-38858 2012-33775
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11月26日(火) -
11月26日(火) - 東京 港区
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月27日(水) - 東京 港区
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月28日(木) - 東京 港区
11月28日(木) - 島根 松江市
11月28日(木) - 京都 京都市
11月28日(木) -
11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月26日(火) -
12月2日(月) - 滋賀 草津市
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