ホーム > 特許ランキング > 株式会社ニューフレアテクノロジー > 2012年 > 出願公開一覧
※ ログインすれば出願人(株式会社ニューフレアテクノロジー)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2012年 出願公開件数ランキング 第343位 120件
(2011年:第376位 103件)
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第464位 75件
(2011年:第886位 31件)
(ランキング更新日:2025年5月30日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
2011年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年
公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2012-54362 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2012年 3月15日 | |
特開 2012-54361 | 荷電粒子ビーム描画装置およびその照射量補正方法 | 2012年 3月15日 | |
特開 2012-54360 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2012年 3月15日 | |
特開 2012-54076 | 電子銃のコンディショニング方法および電子ビーム描画装置 | 2012年 3月15日 | |
特開 2012-49339 | 成膜装置および成膜方法 | 2012年 3月 8日 | |
特開 2012-49316 | 成膜装置および成膜方法 | 2012年 3月 8日 | |
特開 2012-49239 | 荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法 | 2012年 3月 8日 | |
特開 2012-44195 | 気相成長方法 | 2012年 3月 1日 | |
特開 2012-43988 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2012年 3月 1日 | |
特開 2012-43987 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2012年 3月 1日 | |
特開 2012-43972 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2012年 3月 1日 | |
特開 2012-44051 | DACアンプ診断装置、荷電粒子ビーム描画装置及びDACアンプ診断方法 | 2012年 3月 1日 | |
特開 2012-44044 | 荷電粒子ビーム描画方法 | 2012年 3月 1日 | |
特開 2012-38858 | 電子銃のコンディショニング方法および電子ビーム描画装置 | 2012年 2月23日 | |
特開 2012-33775 | サセプタの処理方法および半導体製造装置の処理方法 | 2012年 2月16日 |
120 件中 91-105 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
2012-54362 2012-54361 2012-54360 2012-54076 2012-49339 2012-49316 2012-49239 2012-44195 2012-43988 2012-43987 2012-43972 2012-44051 2012-44044 2012-38858 2012-33775
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。株式会社ニューフレアテクノロジーの知財の動向チェックに便利です。
6月4日(水) -
6月4日(水) -
6月4日(水) -
6月5日(木) -
6月6日(金) -
大阪府大阪市中央区南本町二丁目2番9号 辰野南本町ビル8階 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
659-0068 兵庫県芦屋市業平町4-1 イム・エメロードビル503 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
福岡市博多区博多駅前3丁目25番21号 博多駅前ビジネスセンター411号 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング