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日新イオン機器株式会社
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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第1072位 25件
（
2010年：第1636位 16件）
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第2601位 7件
（
2010年：第1644位 12件）
（ランキング更新日：2025年2月21日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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日新イオン機器株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2011-181433 | イオンビーム照射装置 | 2011年 9月15日 | |
| 特開 2011-181873 | ウエハリフト回転機構、ステージ装置及びイオン注入装置 | 2011年 9月15日 | |
| 特開 2011-165421 | イオンビーム照射方法およびイオンビーム照射装置 | 2011年 8月25日 | |
| 特開 2011-165454 | イオンビーム照射方法およびイオンビーム照射装置 | 2011年 8月25日 | |
| 特開 2011-141986 | 複数の電子閉じ込め用ミラー磁場形成部材を有する磁石を備えたイオンビーム照射装置 | 2011年 7月21日 | |
| 特開 2011-129332 | イオンビーム照射装置 | 2011年 6月30日 | |
| 特開 2011-124059 | 反射電極構造体及びイオン源 | 2011年 6月23日 | |
| 特開 2011-76736 | プラズマ源およびそれを備えるイオン源 | 2011年 4月14日 | |
| 特開 2011-35369 | ウエハ保持機構、ウエハホルダ及び静電チャック | 2011年 2月17日 | |
| 特開 2011-18578 | 複数の均一化レンズを備えるイオン注入装置および複数の均一化レンズの選択方法 | 2011年 1月27日 |
25 件中 16-25 件を表示
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2011-181433 2011-181873 2011-165421 2011-165454 2011-141986 2011-129332 2011-124059 2011-76736 2011-35369 2011-18578
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