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東京エレクトロン株式会社
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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第60位 712件
（
2012年：第53位 714件）
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第45位 796件
（2012年：第37位 902件）
（ランキング更新日：2025年1月31日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5374853 | プラズマ処理装置 | 2013年12月25日 | |
| 特許 5379732 | 基板処理装置 | 2013年12月25日 | |
| 特許 5377587 | アンテナ、プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 | 2013年12月25日 | |
| 特許 5379773 | めっき処理装置及びめっき処理方法並びにめっき処理プログラムを記録した記録媒体 | 2013年12月25日 | |
| 特許 5378449 | 塗布、現像装置 | 2013年12月25日 | |
| 特許 5375852 | 成膜装置、成膜方法及び記憶媒体 | 2013年12月25日 | |
| 特許 5374039 | 基板処理方法、基板処理装置及び記憶媒体 | 2013年12月25日 | |
| 特許 5376023 | 載置台構造及び熱処理装置 | 2013年12月25日 | |
| 特許 5377463 | 加熱処理装置 | 2013年12月25日 | |
| 特許 5375793 | 液処理装置 | 2013年12月25日 | |
| 特許 5375853 | 成膜装置、成膜方法及び記憶媒体 | 2013年12月25日 | |
| 特許 5378448 | 塗布、現像装置及びその方法 | 2013年12月25日 | |
| 特許 5377915 | 検査装置及び検査方法 | 2013年12月25日 | |
| 特許 5373669 | 半導体装置の製造方法 | 2013年12月18日 | |
| 特許 5372895 | 基板処理方法 | 2013年12月18日 |
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5374853 5379732 5377587 5379773 5378449 5375852 5374039 5376023 5377463 5375793 5375853 5378448 5377915 5373669 5372895
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