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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第62位 621件 (2010年:第57位 692件)
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第41位 739件 (2010年:第39位 580件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 4837854 | 整合器およびプラズマ処理装置 | 2011年12月14日 | 共同出願 |
特許 4837570 | レチクル/マスクシステムの適合リアルタイム制御 | 2011年12月14日 | 共同出願 |
特許 4837642 | 基板搬送位置の位置合わせ方法、基板処理システムおよびコンピュータ読み取り可能な記憶媒体 | 2011年12月14日 | |
特許 4838525 | プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置及び可変整合器におけるインピーダンスのプリセット値を決定するためのプログラム | 2011年12月14日 | |
特許 4832576 | 塗布処理装置 | 2011年12月 7日 | |
特許 4830523 | 塗布、現像装置、塗布、現像方法及びその方法を実施するためのコンピュータプログラム。 | 2011年12月 7日 | |
特許 4833859 | 流体用ギャップを有する基板ホルダとこの基板ホルダの製造方法 | 2011年12月 7日 | |
特許 4832176 | 液処理装置および液処理方法 | 2011年12月 7日 | |
特許 4829937 | 半導体製造装置のパーツに付着した堆積物またはパーティクルを除去する洗浄装置及び洗浄方法 | 2011年12月 7日 | |
特許 4833512 | 被処理体処理装置、被処理体処理方法及び被処理体搬送方法 | 2011年12月 7日 | |
特許 4833778 | 基板処理装置及び基板処理方法 | 2011年12月 7日 | |
特許 4833878 | 基板の処理方法及び基板処理装置 | 2011年12月 7日 | |
特許 4833140 | 昇華物除去装置 | 2011年12月 7日 | |
特許 4832368 | 熱処理装置 | 2011年12月 7日 | |
特許 4833890 | プラズマ処理装置及びプラズマ分布補正方法 | 2011年12月 7日 |
739 件中 46-60 件を表示
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4837854 4837570 4837642 4838525 4832576 4830523 4833859 4832176 4829937 4833512 4833778 4833878 4833140 4832368 4833890
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