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東京エレクトロン株式会社

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東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日
特許 5358956	載置台装置、処理装置、温度制御方法及び記憶媒体	2013年12月 4日
特許 5357487	シリコン酸化膜の形成方法、コンピュータ読み取り可能な記憶媒体およびプラズマ酸化処理装置	2013年12月 4日
特許 5358366	基板処理装置及び方法	2013年12月 4日
特許 5359642	成膜方法	2013年12月 4日
特許 5358138	検査装置	2013年12月 4日
特許 5359285	処理装置及び処理装置の運転方法	2013年12月 4日
特許 5358651	熱処理方法及び熱処理装置	2013年12月 4日
特許 5359286	超臨界処理装置、基板処理システム及び超臨界処理方法	2013年12月 4日
特許 5361457	プラズマ処理装置及びプラズマ処理装置用の電極	2013年12月 4日
特許 5356522	化学処理及び熱処理用高スループット処理システム及びその動作方法	2013年12月 4日
特許 5361657	プライミング処理方法及びプライミング処理装置	2013年12月 4日
特許 5361847	基板処理方法、この基板処理方法を実行させるためのプログラムを記録した記録媒体及び基板処理装置	2013年12月 4日
特許 5360069	プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法	2013年12月 4日
特許 5357694	位置ずれ防止装置、これを備えた基板保持具、基板搬送装置および基板搬送方法	2013年12月 4日
特許 5361189	改良されたバフル板のための方法及び装置	2013年12月 4日

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5358956 5357487 5358366 5359642 5358138 5359285 5358651 5359286 5361457 5356522 5361657 5361847 5360069 5357694 5361189

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