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東京エレクトロン株式会社
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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第60位 712件
（
2012年：第53位 714件）
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第45位 796件
（2012年：第37位 902件）
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5358956 | 載置台装置、処理装置、温度制御方法及び記憶媒体 | 2013年12月 4日 | |
| 特許 5357487 | シリコン酸化膜の形成方法、コンピュータ読み取り可能な記憶媒体およびプラズマ酸化処理装置 | 2013年12月 4日 | |
| 特許 5358366 | 基板処理装置及び方法 | 2013年12月 4日 | |
| 特許 5359642 | 成膜方法 | 2013年12月 4日 | |
| 特許 5358138 | 検査装置 | 2013年12月 4日 | |
| 特許 5359285 | 処理装置及び処理装置の運転方法 | 2013年12月 4日 | |
| 特許 5358651 | 熱処理方法及び熱処理装置 | 2013年12月 4日 | |
| 特許 5359286 | 超臨界処理装置、基板処理システム及び超臨界処理方法 | 2013年12月 4日 | |
| 特許 5361457 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理装置用の電極 | 2013年12月 4日 | |
| 特許 5356522 | 化学処理及び熱処理用高スループット処理システム及びその動作方法 | 2013年12月 4日 | |
| 特許 5361657 | プライミング処理方法及びプライミング処理装置 | 2013年12月 4日 | |
| 特許 5361847 | 基板処理方法、この基板処理方法を実行させるためのプログラムを記録した記録媒体及び基板処理装置 | 2013年12月 4日 | |
| 特許 5360069 | プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 | 2013年12月 4日 | |
| 特許 5357694 | 位置ずれ防止装置、これを備えた基板保持具、基板搬送装置および基板搬送方法 | 2013年12月 4日 | |
| 特許 5361189 | 改良されたバフル板のための方法及び装置 | 2013年12月 4日 |
794 件中 61-75 件を表示
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5358956 5357487 5358366 5359642 5358138 5359285 5358651 5359286 5361457 5356522 5361657 5361847 5360069 5357694 5361189
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