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東京エレクトロン株式会社
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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第60位 712件
（
2012年：第53位 714件）
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第45位 796件
（2012年：第37位 902件）
（ランキング更新日：2025年1月31日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5357289 | 塗布膜形成方法、塗布膜形成装置、及び記憶媒体 | 2013年12月 4日 | |
| 特許 5358436 | プラズマ処理方法およびプラズマ処理装置 | 2013年12月 4日 | |
| 特許 5350043 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 | 2013年11月27日 | |
| 特許 5355951 | 液処理装置 | 2013年11月27日 | |
| 特許 5352103 | 熱処理装置および処理システム | 2013年11月27日 | |
| 特許 5352609 | 接合方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体、接合装置及び接合システム | 2013年11月27日 | |
| 特許 5350747 | 熱処理装置 | 2013年11月27日 | |
| 特許 5351948 | アモルファスカーボン膜の形成方法および形成装置 | 2013年11月27日 | |
| 特許 5351479 | 加熱源の冷却構造 | 2013年11月27日 | |
| 特許 5352546 | 接合システム、接合方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 | 2013年11月27日 | |
| 特許 5353905 | プラズマ処理装置及び酸化膜の形成方法 | 2013年11月27日 | |
| 特許 5350424 | 表面処理方法 | 2013年11月27日 | |
| 特許 5355615 | 基板処理方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体、基板処理装置及びインプリントシステム | 2013年11月27日 | |
| 特許 5351317 | 基板処理装置 | 2013年11月27日 | |
| 特許 5355451 | 接合装置 | 2013年11月27日 |
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5357289 5358436 5350043 5355951 5352103 5352609 5350747 5351948 5351479 5352546 5353905 5350424 5355615 5351317 5355451
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