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東京エレクトロン株式会社
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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第60位 712件
（
2012年：第53位 714件）
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第45位 796件
（2012年：第37位 902件）
（ランキング更新日：2025年5月30日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5338335 | 搬送容器の開閉装置及びプローブ装置 | 2013年11月13日 | |
| 特許 5341986 | 蒸着処理装置および蒸着処理方法 | 2013年11月13日 | |
| 特許 5336441 | 液処理装置及び液処理方法 | 2013年11月 6日 | |
| 特許 5337180 | 塗布処理方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体及び塗布処理装置 | 2013年11月 6日 | |
| 特許 5336799 | 化学的機械研磨装置、化学的機械研磨方法及び制御プログラム | 2013年11月 6日 | 共同出願 |
| 特許 5337376 | 単分子層堆積方法および装置 | 2013年11月 6日 | 共同出願 |
| 特許 5333804 | 成膜装置および成膜方法 | 2013年11月 6日 | 共同出願 |
| 特許 5332007 | 光計測を用いた二重露光リソグラフィの位置精度判断 | 2013年11月 6日 | |
| 特許 5333408 | 保持部材の姿勢判定装置、その方法、基板処理装置及び記憶媒体 | 2013年11月 6日 | |
| 特許 5337269 | アモルファスシリコン膜の成膜方法および成膜装置 | 2013年11月 6日 | |
| 特許 5337541 | 処理液供給機構、処理液供給方法、液処理装置、および記憶媒体 | 2013年11月 6日 | |
| 特許 5335875 | プラズマ処理装置 | 2013年11月 6日 | |
| 特許 5336570 | ガス導入装置及び基板処理装置 | 2013年11月 6日 | |
| 特許 5336885 | 基板搬送装置及び基板搬送方法 | 2013年11月 6日 | |
| 特許 5336968 | プラズマ処理装置用電極及びプラズマ処理装置 | 2013年11月 6日 |
794 件中 121-135 件を表示
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5338335 5341986 5336441 5337180 5336799 5337376 5333804 5332007 5333408 5337269 5337541 5335875 5336570 5336885 5336968
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