特許ランキング - 出願人詳細情報 -
東京エレクトロン株式会社
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■ 2018年 出願公開件数ランキング 第67位 588件
（
2017年：第83位 585件）
■ 2018年 特許取得件数ランキング 第50位 503件
（2017年：第66位 431件）
（ランキング更新日：2020年2月20日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 再表 2017-158955 | 基板処理装置、基板処理方法及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体 | 2018年12月27日 | |
| 再表 2017-159401 | 液体を用いて基板に対するチップ部品のアライメントを行う方法 | 2018年12月27日 | |
| 特開 2018-202361 | プラズマ溶射ヘッド、プラズマ溶射装置及びプラズマ溶射方法 | 2018年12月27日 | |
| 特開 2018-204810 | 減圧乾燥装置 | 2018年12月27日 | |
| 特開 2018-206796 | 基板処理方法 | 2018年12月27日 | |
| 特開 2018-206803 | プラズマ処理装置の静電チャックを運用する方法 | 2018年12月27日 | |
| 特開 2018-206804 | 静電チャック及びプラズマ処理装置 | 2018年12月27日 | |
| 特開 2018-206805 | プラズマ処理方法 | 2018年12月27日 | |
| 特開 2018-206806 | ステージ及びプラズマ処理装置 | 2018年12月27日 | |
| 特開 2018-206876 | 基板液処理装置、処理液供給方法及び記憶媒体 | 2018年12月27日 | |
| 特開 2018-206913 | 部材及びプラズマ処理装置 | 2018年12月27日 | |
| 特開 2018-206935 | プラズマ処理装置、静電吸着方法および静電吸着プログラム | 2018年12月27日 | |
| 特開 2018-206936 | 基板処理システム、基板処理方法 | 2018年12月27日 | |
| 特開 2018-206937 | エッチング方法およびエッチング装置 | 2018年12月27日 | |
| 特開 2018-206948 | 検査装置、検査システム、および位置合わせ方法 | 2018年12月27日 |
591 件中 1-15 件を表示
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公開公報の場合は、種別「公開・公表特許公報(A)」の番号に、特許公報の場合は「特許公報・公告特許公報(B)」の番号にペーストしてください。
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