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東京エレクトロン株式会社

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　■　2018年出願公開件数ランキング　　　第67位　588件（2017年：第83位　585件）

　■　2018年特許取得件数ランキング　　　第50位　503件（2017年：第66位　431件）

（ランキング更新日：2025年7月4日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

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東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
再表 2017-158955	基板処理装置、基板処理方法及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体	2018年12月27日
再表 2017-159401	液体を用いて基板に対するチップ部品のアライメントを行う方法	2018年12月27日
特開 2018-202361	プラズマ溶射ヘッド、プラズマ溶射装置及びプラズマ溶射方法	2018年12月27日
特開 2018-204810	減圧乾燥装置	2018年12月27日
特開 2018-206796	基板処理方法	2018年12月27日
特開 2018-206803	プラズマ処理装置の静電チャックを運用する方法	2018年12月27日
特開 2018-206804	静電チャック及びプラズマ処理装置	2018年12月27日
特開 2018-206805	プラズマ処理方法	2018年12月27日
特開 2018-206806	ステージ及びプラズマ処理装置	2018年12月27日
特開 2018-206876	基板液処理装置、処理液供給方法及び記憶媒体	2018年12月27日
特開 2018-206913	部材及びプラズマ処理装置	2018年12月27日
特開 2018-206935	プラズマ処理装置、静電吸着方法および静電吸着プログラム	2018年12月27日
特開 2018-206936	基板処理システム、基板処理方法	2018年12月27日
特開 2018-206937	エッチング方法およびエッチング装置	2018年12月27日
特開 2018-206948	検査装置、検査システム、および位置合わせ方法	2018年12月27日

591 件中 1-15 件を表示

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2017-158955 2017-159401 2018-202361 2018-204810 2018-206796 2018-206803 2018-206804 2018-206805 2018-206806 2018-206876 2018-206913 2018-206935 2018-206936 2018-206937 2018-206948

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