特許ランキング - 出願人詳細情報 -
東京エレクトロン株式会社
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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第61位 616件
（
2015年：第56位 677件）
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第49位 561件
（
2015年：第51位 433件）
（ランキング更新日：2020年7月9日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2016-207772 | 有機膜をエッチングする方法 | 2016年12月 8日 | |
| 特開 2016-207788 | 上部電極の表面処理方法、プラズマ処理装置及び上部電極 | 2016年12月 8日 | |
| 特開 2016-207789 | パッシベーション処理方法、半導体構造の形成方法及び半導体構造 | 2016年12月 8日 | |
| 特開 2016-207840 | エッチング処理方法 | 2016年12月 8日 | |
| 特開 2016-207915 | 被処理体を処理する方法 | 2016年12月 8日 | |
| 特開 2016-207981 | 基板処理装置及び基板処理方法 | 2016年12月 8日 | |
| 特開 2016-208004 | 基板処理方法、基板処理システム及び基板処理装置 | 2016年12月 8日 | |
| 特表 2016-537830 | ガスパルスを用いる深掘りシリコンエッチングのための方法 | 2016年12月 1日 | |
| 特開 2016-198718 | 異物除去装置、異物除去方法および剥離装置 | 2016年12月 1日 | |
| 特開 2016-199741 | 防汚処理組成物、処理装置、処理方法および処理物品 | 2016年12月 1日 | |
| 特開 2016-200480 | 異物検出方法、異物検出装置および剥離装置 | 2016年12月 1日 | |
| 特開 2016-201385 | 基板処理方法および基板処理装置 | 2016年12月 1日 | |
| 特開 2016-201394 | 温度制御装置、温度制御方法およびプログラム | 2016年12月 1日 | |
| 特開 2016-201399 | 加熱装置及び加熱方法並びに記憶媒体 | 2016年12月 1日 | |
| 特開 2016-201457 | 異物除去装置、異物除去方法および剥離装置 | 2016年12月 1日 |
623 件中 61-75 件を表示
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2016-207772 2016-207788 2016-207789 2016-207840 2016-207915 2016-207981 2016-208004 2016-537830 2016-198718 2016-199741 2016-200480 2016-201385 2016-201394 2016-201399 2016-201457
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