特許ランキング - 出願人詳細情報 -

東京エレクトロン株式会社

※ ログインすれば出願人(東京エレクトロン株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2016年出願公開件数ランキング　　　第61位　616件（2015年：第56位　677件）

　■　2016年特許取得件数ランキング　　　第49位　561件（2015年：第51位　433件）

（ランキング更新日：2025年7月4日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2016-207772	有機膜をエッチングする方法	2016年12月 8日
特開 2016-207788	上部電極の表面処理方法、プラズマ処理装置及び上部電極	2016年12月 8日
特開 2016-207789	パッシベーション処理方法、半導体構造の形成方法及び半導体構造	2016年12月 8日
特開 2016-207840	エッチング処理方法	2016年12月 8日
特開 2016-207915	被処理体を処理する方法	2016年12月 8日
特開 2016-207981	基板処理装置及び基板処理方法	2016年12月 8日
特開 2016-208004	基板処理方法、基板処理システム及び基板処理装置	2016年12月 8日
特表 2016-537830	ガスパルスを用いる深掘りシリコンエッチングのための方法	2016年12月 1日
特開 2016-198718	異物除去装置、異物除去方法および剥離装置	2016年12月 1日
特開 2016-199741	防汚処理組成物、処理装置、処理方法および処理物品	2016年12月 1日
特開 2016-200480	異物検出方法、異物検出装置および剥離装置	2016年12月 1日
特開 2016-201385	基板処理方法および基板処理装置	2016年12月 1日
特開 2016-201394	温度制御装置、温度制御方法およびプログラム	2016年12月 1日
特開 2016-201399	加熱装置及び加熱方法並びに記憶媒体	2016年12月 1日
特開 2016-201457	異物除去装置、異物除去方法および剥離装置	2016年12月 1日

623 件中 61-75 件を表示

... 5

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2016-207772 2016-207788 2016-207789 2016-207840 2016-207915 2016-207981 2016-208004 2016-537830 2016-198718 2016-199741 2016-200480 2016-201385 2016-201394 2016-201399 2016-201457

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。東京エレクトロン株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数