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東京エレクトロン株式会社

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  2016年 出願公開件数ランキング    第61位 616件 下降2015年:第56位 677件)

  2016年 特許取得件数ランキング    第49位 561件 上昇2015年:第51位 433件)

(ランキング更新日:2020年7月9日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特開 2016-207772 有機膜をエッチングする方法 2016年12月 8日
特開 2016-207788 上部電極の表面処理方法、プラズマ処理装置及び上部電極 2016年12月 8日
特開 2016-207789 パッシベーション処理方法、半導体構造の形成方法及び半導体構造 2016年12月 8日
特開 2016-207840 エッチング処理方法 2016年12月 8日
特開 2016-207915 被処理体を処理する方法 2016年12月 8日
特開 2016-207981 基板処理装置及び基板処理方法 2016年12月 8日
特開 2016-208004 基板処理方法、基板処理システム及び基板処理装置 2016年12月 8日
特表 2016-537830 ガスパルスを用いる深掘りシリコンエッチングのための方法 2016年12月 1日
特開 2016-198718 異物除去装置、異物除去方法および剥離装置 2016年12月 1日
特開 2016-199741 防汚処理組成物、処理装置、処理方法および処理物品 2016年12月 1日
特開 2016-200480 異物検出方法、異物検出装置および剥離装置 2016年12月 1日
特開 2016-201385 基板処理方法および基板処理装置 2016年12月 1日
特開 2016-201394 温度制御装置、温度制御方法およびプログラム 2016年12月 1日
特開 2016-201399 加熱装置及び加熱方法並びに記憶媒体 2016年12月 1日
特開 2016-201457 異物除去装置、異物除去方法および剥離装置 2016年12月 1日

623 件中 61-75 件を表示

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2016-207772 2016-207788 2016-207789 2016-207840 2016-207915 2016-207981 2016-208004 2016-537830 2016-198718 2016-199741 2016-200480 2016-201385 2016-201394 2016-201399 2016-201457

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