特許ランキング - 出願人詳細情報 -

東京エレクトロン株式会社

※ ログインすれば出願人(東京エレクトロン株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2016年出願公開件数ランキング　　　第61位　616件（2015年：第56位　677件）

　■　2016年特許取得件数ランキング　　　第49位　561件（2015年：第51位　433件）

（ランキング更新日：2024年11月22日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年

東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2016-213444	イメージ反転、誘導自己組織化、および選択的堆積を補助するための、サブ解像度開口部の使用	2016年12月15日
特開 2016-213475	シュリンク及び成長方法を使用する極端紫外線感度低下	2016年12月15日
特表 2016-538726	異なる波長の二つ以上の紫外光源を用いて基板を処理するシステム	2016年12月 8日
特開 2016-205408	流体継手用ガスケットおよび流体継手	2016年12月 8日
特開 2016-205409	遮断開放器	2016年12月 8日
特開 2016-205649	基板液処理装置、ヒータユニットの制御方法および記憶媒体	2016年12月 8日
特開 2016-207462	プラズマ処理装置	2016年12月 8日
特開 2016-207719	縦型熱処理装置	2016年12月 8日
特開 2016-207720	めっき処理方法、記憶媒体およびめっき処理システム	2016年12月 8日
特開 2016-207744	基板液処理装置、基板液処理方法および記憶媒体	2016年12月 8日
特開 2016-207767	基板処理システム	2016年12月 8日
特開 2016-207768	多孔質膜をエッチングする方法	2016年12月 8日
特開 2016-207769	スリップリング、支持機構及びプラズマ処理装置	2016年12月 8日
特開 2016-207770	被処理体を処理する方法	2016年12月 8日
特開 2016-207771	被エッチング層をエッチングする方法	2016年12月 8日

623 件中 46-60 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2016-213444 2016-213475 2016-538726 2016-205408 2016-205409 2016-205649 2016-207462 2016-207719 2016-207720 2016-207744 2016-207767 2016-207768 2016-207769 2016-207770 2016-207771

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。東京エレクトロン株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数