特許ランキング - 出願人詳細情報 -
東京エレクトロン株式会社
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■ 2019年 出願公開件数ランキング 第58位 660件
（
2018年：第67位 588件）
■ 2019年 特許取得件数ランキング 第58位 415件
（
2018年：第50位 503件）
（ランキング更新日：2020年5月21日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2019-201201 | 基板処理方法、記憶媒体及び基板処理装置 | 2019年11月21日 | |
| 特開 2019-201234 | 基板洗浄装置 | 2019年11月21日 | |
| 特開 2019-201235 | 基板洗浄方法 | 2019年11月21日 | |
| 特開 2019-195894 | 接続線支持装置 | 2019年11月14日 | |
| 特開 2019-197830 | 載置台及びプラズマ処理装置 | 2019年11月14日 | |
| 特開 2019-197849 | プラズマ処理装置 | 2019年11月14日 | |
| 特開 2019-197856 | エッチング方法およびエッチング装置 | 2019年11月14日 | |
| 特開 2019-197872 | 半導体膜の形成方法及び成膜装置 | 2019年11月14日 | |
| 特開 2019-197893 | 誘導加熱を使用した急速ウェハ乾燥 | 2019年11月14日 | |
| 特開 2019-197903 | 処理装置 | 2019年11月14日 | |
| 特開 2019-198010 | フィルタ装置及びプラズマ処理装置 | 2019年11月14日 | |
| 再表 2018-128088 | 基板洗浄方法、基板洗浄システムおよび記憶媒体 | 2019年11月 7日 | |
| 再表 2018-142840 | 基板処理方法、コンピュータ記憶媒体及び基板処理システム | 2019年11月 7日 | |
| 再表 2018-142955 | 電解処理装置および電解処理方法 | 2019年11月 7日 | |
| 特開 2019-194132 | ＩＩＩ族窒化物微結晶凝集体の製造方法、窒化ガリウム微結晶凝集体の製造方法、ＩＩＩ族窒化物微結晶凝集体およびスパッタリングターゲット | 2019年11月 7日 |
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2019-201201 2019-201234 2019-201235 2019-195894 2019-197830 2019-197849 2019-197856 2019-197872 2019-197893 2019-197903 2019-198010 2018-128088 2018-142840 2018-142955 2019-194132
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