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東京エレクトロン株式会社

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  2019年 出願公開件数ランキング    第58位 660件 上昇2018年:第67位 588件)

  2019年 特許取得件数ランキング    第58位 415件 下降2018年:第50位 503件)

(ランキング更新日:2024年12月4日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
再表 2017-183471 温度測定用基板及び温度測定システム 2019年 2月21日
特開 2019-26465 搬送システム及び基板処理システム 2019年 2月21日
特開 2019-27944 測定器を較正する方法、及び、ケース 2019年 2月21日
特開 2019-28377 基板処理方法、コンピュータ記憶媒体及び基板処理システム 2019年 2月21日
特開 2019-29373 基板処理装置、及び、基板処理装置の運用方法 2019年 2月21日
特開 2019-29417 基板液処理方法、基板液処理装置及び記憶媒体 2019年 2月21日
特開 2019-29450 熱処理装置、熱処理方法及び記憶媒体 2019年 2月21日
特開 2019-29524 処理装置及び処理方法 2019年 2月21日
特開 2019-29531 検査装置、検査方法及び記憶媒体 2019年 2月21日
特開 2019-29561 多層膜をエッチングする方法 2019年 2月21日
特開 2019-29576 シリコン膜の形成方法および形成装置 2019年 2月21日
特開 2019-29582 タングステン膜上へシリコン酸化膜を形成する方法および装置 2019年 2月21日
特開 2019-29593 プローブ装置 2019年 2月21日
特開 2019-29619 被処理体を処理する方法 2019年 2月21日
特開 2019-29627 検査システム 2019年 2月21日

665 件中 571-585 件を表示

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2017-183471 2019-26465 2019-27944 2019-28377 2019-29373 2019-29417 2019-29450 2019-29524 2019-29531 2019-29561 2019-29576 2019-29582 2019-29593 2019-29619 2019-29627

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