特許ランキング - 出願人詳細情報 -

東京エレクトロン株式会社

※ ログインすれば出願人(東京エレクトロン株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2019年出願公開件数ランキング　　　第58位　660件（2018年：第67位　588件）

　■　2019年特許取得件数ランキング　　　第58位　415件（2018年：第50位　503件）

（ランキング更新日：2024年12月4日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年

東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2019-36751	基板処理装置	2019年 3月 7日
再表 2017-169556	プラズマ電極およびプラズマ処理装置	2019年 2月28日
特表 2019-506000	ラインエッジ粗さ及び他の集積化目標を満たすラズマ処理方法	2019年 2月28日
特開 2019-30222	培養容器	2019年 2月28日
特開 2019-31746	タングステン膜の成膜方法および成膜装置	2019年 2月28日
特開 2019-33111	基板処理方法および基板処理装置	2019年 2月28日
特開 2019-33126	プラズマ処理装置	2019年 2月28日
特開 2019-33153	基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体	2019年 2月28日
特開 2019-33157	基板処理方法、記憶媒体および基板処理装置	2019年 2月28日
特開 2019-33228	シリコン窒化膜の成膜方法及び成膜装置	2019年 2月28日
特開 2019-33229	シリコン窒化膜の成膜方法及び成膜装置	2019年 2月28日
特開 2019-33230	シリコン窒化膜の成膜方法及び成膜装置	2019年 2月28日
特開 2019-33231	プラズマ処理装置	2019年 2月28日
特開 2019-33246	基板処理方法、記憶媒体及び基板処理システム	2019年 2月28日
特開 2019-33270	ウエハ検査装置	2019年 2月28日

665 件中 556-570 件を表示

... 38

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2019-36751 2017-169556 2019-506000 2019-30222 2019-31746 2019-33111 2019-33126 2019-33153 2019-33157 2019-33228 2019-33229 2019-33230 2019-33231 2019-33246 2019-33270

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。東京エレクトロン株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数