特許ランキング - 出願人詳細情報 -

東京エレクトロン株式会社

※ ログインすれば出願人(東京エレクトロン株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2019年出願公開件数ランキング　　　第58位　660件（2018年：第67位　588件）

　■　2019年特許取得件数ランキング　　　第58位　415件（2018年：第50位　503件）

（ランキング更新日：2024年12月4日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年

東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2019-21807	基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体	2019年 2月 7日
特開 2019-21845	基板載置台及び基板検査装置	2019年 2月 7日
特開 2019-21859	基板処理システム	2019年 2月 7日
特開 2019-21880	ワーク保持機構及びワーク処理システム	2019年 2月 7日
特開 2019-21939	基板処理方法、基板処理装置、基板処理システム及び記憶媒体	2019年 2月 7日
再表 2017-163438	半導体装置の製造方法	2019年 1月31日
特開 2019-13151	細胞培養システム	2019年 1月31日
特開 2019-15348	ガスシリンダ	2019年 1月31日
特開 2019-16654	基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体	2019年 1月31日
特開 2019-16662	基板反り監視装置及びこれを用いた基板処理装置、並びに基板反り監視方法	2019年 1月31日
特開 2019-16697	プラズマ処理装置	2019年 1月31日
特開 2019-16698	エッチング方法および残渣除去方法	2019年 1月31日
特開 2019-16704	静電チャックの製造方法及び静電チャック	2019年 1月31日
特開 2019-16714	基板反り検出装置及び基板反り検出方法、並びにこれらを用いた基板処理装置及び基板処理方法	2019年 1月31日
特開 2019-16759	ユーザーインターフェイスおよびメンテナンスのガイダンス方法	2019年 1月31日

665 件中 601-615 件を表示

... 41

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2019-21807 2019-21845 2019-21859 2019-21880 2019-21939 2017-163438 2019-13151 2019-15348 2019-16654 2019-16662 2019-16697 2019-16698 2019-16704 2019-16714 2019-16759

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。東京エレクトロン株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数