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東京エレクトロン株式会社
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■ 2019年 出願公開件数ランキング 第58位 660件
（
2018年：第67位 588件）
■ 2019年 特許取得件数ランキング 第58位 415件
（
2018年：第50位 503件）
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6482978 | 基板処理装置 | 2019年 3月13日 | |
| 特許 6482979 | 液処理装置 | 2019年 3月13日 | |
| 特許 6484144 | 基板液処理装置及び基板液処理方法並びに基板液処理プログラムを記憶したコンピュータ読み取り可能な記憶媒体 | 2019年 3月13日 | |
| 特許 6484665 | 高アスペクト比フィーチャをエッチングするための多周波電力変調 | 2019年 3月13日 | |
| 特許 6477044 | 原料ガス供給装置、原料ガス供給方法及び成膜装置 | 2019年 3月 6日 | |
| 特許 6477075 | 原料ガス供給装置及び成膜装置 | 2019年 3月 6日 | |
| 特許 6478748 | マイクロ波プラズマ源およびプラズマ処理装置 | 2019年 3月 6日 | |
| 特許 6478813 | 金属膜の成膜方法 | 2019年 3月 6日 | |
| 特許 6478828 | 成膜装置、成膜方法および基板載置台 | 2019年 3月 6日 | |
| 特許 6478847 | 基板処理装置 | 2019年 3月 6日 | |
| 特許 6478872 | 成膜装置 | 2019年 3月 6日 | |
| 特許 6478878 | 基板処理装置及び基板搬送方法並びに基板搬送プログラムを記憶したコンピュータ読み取り可能な記憶媒体 | 2019年 3月 6日 | |
| 特許 6479465 | 基板処理装置及び基板温度測定装置 | 2019年 3月 6日 | |
| 特許 6479550 | プラズマ処理装置 | 2019年 3月 6日 | |
| 特許 6479560 | 成膜装置 | 2019年 3月 6日 |
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6482978 6482979 6484144 6484665 6477044 6477075 6478748 6478813 6478828 6478847 6478872 6478878 6479465 6479550 6479560
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12月10日(火) - 東京 港区
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12月12日(木) - 東京 千代田
12月12日(木) -
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12月13日(金) - 東京 品川
12月13日(金) -
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