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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 6462477 | 被処理体を処理する方法 | 2019年 1月30日 | |
特許 6462551 | 基板処理装置 | 2019年 1月30日 | |
特許 6462559 | 基板処理装置 | 2019年 1月30日 | |
特許 6462620 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2019年 1月30日 | |
特許 6462782 | 表面波プラズマ源における操作不安定性検出のための方法 | 2019年 1月30日 | |
特許 6463220 | 処理システム | 2019年 1月30日 | |
特許 6463227 | 基板搬送方法 | 2019年 1月30日 | |
特許 6455334 | 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体 | 2019年 1月23日 | |
特許 6456185 | シリコン含有膜の成膜方法 | 2019年 1月23日 | |
特許 6456601 | プラズマ成膜装置 | 2019年 1月23日 | |
特許 6456712 | 基板保持機構及びこれを用いた基板処理装置 | 2019年 1月23日 | |
特許 6456792 | 基板液処理装置、基板液処理方法及び記憶媒体 | 2019年 1月23日 | |
特許 6456793 | 基板処理装置および昇華性物質の析出防止方法 | 2019年 1月23日 | |
特許 6457779 | 断熱部材及びこれを用いた熱処理装置 | 2019年 1月23日 | |
特許 6452136 | 誘導自己組織化用の化学テンプレートを形成するための硬化フォトレジストのUV支援剥離 | 2019年 1月16日 |
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6462477 6462551 6462559 6462620 6462782 6463220 6463227 6455334 6456185 6456601 6456712 6456792 6456793 6457779 6452136
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12月2日(月) - 滋賀 草津市
新製品開発の「タネ」がみつかる!株式会社リコーによるシーズ発表会 ~リコーの技術(シーズ)やアイデアを使って新製品をつくりませんか?~
12月2日(月) -
12月4日(水) - 東京 千代田区
12月4日(水) - 東京 港区
12月4日(水) -
12月4日(水) - 大阪 大阪市
12月4日(水) -
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12月5日(木) - 東京 港区
12月5日(木) -
12月5日(木) -
12月6日(金) -
12月6日(金) - 愛知 豊橋市花田町
12月6日(金) -
12月2日(月) - 滋賀 草津市
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12月10日(火) - 東京 港区
12月10日(火) -
12月10日(火) - 東京 港区
12月11日(水) - 東京 港区
12月11日(水) -
12月11日(水) -
12月11日(水) -
12月11日(水) -
12月11日(水) -
12月12日(木) -
12月12日(木) - 東京 港区
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ビジネスの実務で役立つ技術契約の基礎知識と実例 ~秘密保持契約、共同研究開発、共同出願契約、製造委託契約、特許ライセンス契約~
12月12日(木) - 東京 千代田
12月12日(木) -
12月12日(木) -
12月13日(金) - 東京 23区
12月13日(金) - 東京 品川
12月13日(金) -
12月13日(金) -
12月14日(土) -
12月10日(火) - 東京 港区
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