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■ 2020年 出願公開件数ランキング 第43位 773件
(2019年:第58位 660件)
■ 2020年 特許取得件数ランキング 第54位 436件
(2019年:第58位 415件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2020-88175 | 半導体膜の形成方法及び成膜装置 | 2020年 6月 4日 | |
特開 2020-88193 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 | 2020年 6月 4日 | |
特開 2020-88195 | 基板保持機構および成膜装置 | 2020年 6月 4日 | |
特開 2020-88201 | ガス供給装置及びガス供給方法 | 2020年 6月 4日 | |
特開 2020-88204 | 検査装置、温度制御装置及び温度制御方法 | 2020年 6月 4日 | |
特開 2020-88207 | 熱処理装置及び熱処理方法 | 2020年 6月 4日 | |
特開 2020-88247 | 検査装置、メンテナンス方法、及びプログラム | 2020年 6月 4日 | |
特開 2020-88280 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2020年 6月 4日 | |
特開 2020-88282 | 基板処理装置 | 2020年 6月 4日 | |
特開 2020-88283 | 試験用ウエハおよびその製造方法 | 2020年 6月 4日 | |
特開 2020-88317 | シャワーヘッドおよびガス処理装置 | 2020年 6月 4日 | |
特開 2020-88324 | 処理装置、処理方法、及びプログラム | 2020年 6月 4日 | |
特開 2020-88355 | 基板処理方法 | 2020年 6月 4日 | |
特開 2020-88377 | 真空処理装置 | 2020年 6月 4日 | |
特開 2020-79896 | 光照射装置 | 2020年 5月28日 |
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2020-88175 2020-88193 2020-88195 2020-88201 2020-88204 2020-88207 2020-88247 2020-88280 2020-88282 2020-88283 2020-88317 2020-88324 2020-88355 2020-88377 2020-79896
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2月25日(火) -
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2月27日(木) - 東京 港区
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2月27日(木) - 東京 千代田区
2月25日(火) -
3月4日(火) - 東京 港区
3月4日(火) -
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3月4日(火) -
3月5日(水) -
3月5日(水) -
3月6日(木) -
3月6日(木) - 東京 品川区
3月6日(木) - 東京 港区
3月6日(木) -
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3月7日(金) - 東京 港区
3月7日(金) -
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