特許ランキング - 出願人詳細情報 -

東京エレクトロン株式会社

※ ログインすれば出願人(東京エレクトロン株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2020年出願公開件数ランキング　　　第43位　773件（2019年：第58位　660件）

　■　2020年特許取得件数ランキング　　　第54位　436件（2019年：第58位　415件）

（ランキング更新日：2025年2月21日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2020-64995	基板処理装置及び基板処理方法	2020年 4月23日
特開 2020-65003	基板処理装置、及び搬送位置補正方法	2020年 4月23日
特開 2020-65012	基板処理装置及び基板処理方法	2020年 4月23日
特開 2020-65013	終点検出方法および終点検出装置	2020年 4月23日
特開 2020-65031	酸化処理モジュール、基板処理システム及び酸化処理方法	2020年 4月23日
特開 2020-65032	シリコン窒化膜の成膜方法、および成膜装置	2020年 4月23日
特開 2020-65033	フィルタユニットの調整方法およびプラズマ処理装置	2020年 4月23日
再表 2018-235411	検査システム	2020年 4月16日
再表 2018-235619	基板処理システム、基板処理方法及びコンピュータ記憶媒体	2020年 4月16日
再表 2019-9054	基板処理システム、基板洗浄方法および記憶媒体	2020年 4月16日
特開 2020-59910	原料ガス供給装置、成膜装置及び原料ガス供給方法	2020年 4月16日
特開 2020-59911	成膜方法及び基板処理システム	2020年 4月16日
特開 2020-59916	表面処理方法及び処理システム	2020年 4月16日
特開 2020-60367	乾燥装置及び乾燥処理方法	2020年 4月16日
特開 2020-60481	回転角度検出装置及び回転角度検出方法、並びにこれらを用いた基板処理装置及び基板処理方法	2020年 4月16日

777 件中 541-555 件を表示

... 37

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2020-64995 2020-65003 2020-65012 2020-65013 2020-65031 2020-65032 2020-65033 2018-235411 2018-235619 2019-9054 2020-59910 2020-59911 2020-59916 2020-60367 2020-60481

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。東京エレクトロン株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数