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東京エレクトロン株式会社
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■ 2022年 出願公開件数ランキング 第25位 842件
（
2021年：第34位 765件）
■ 2022年 特許取得件数ランキング 第38位 690件
（2021年：第45位 515件）
（ランキング更新日：2026年10月9日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2022-178272 | プラズマ処理装置 | 2022年12月 2日 | |
| 特開 2022-178406 | 温度制御方法及び温度制御装置 | 2022年12月 2日 | |
| 特開 2022-179048 | 接合方法、及び接合装置 | 2022年12月 2日 | |
| 特開 2022-178748 | 基板処理方法および基板処理装置 | 2022年12月 2日 | |
| 特開 2022-179698 | ワークピース磁化システムおよびその作動方法 | 2022年12月 2日 | |
| 特開 2022-179327 | 基板処理方法及び基板処理装置 | 2022年12月 2日 | |
| 特開 2022-177274 | 接合装置、接合システム及び接合方法 | 2022年11月30日 | |
| 特開 2022-176155 | プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 | 2022年11月25日 | |
| 特開 2022-175767 | レーザ加工装置、レーザ加工方法、及び、データ生成方法 | 2022年11月25日 | |
| 特開 2022-175640 | 評価装置、評価方法及び評価プログラム | 2022年11月25日 | |
| 特開 2022-175031 | 基板搬送装置及び基板搬送方法 | 2022年11月25日 | |
| 特開 2022-175030 | 基板を処理する装置、及び処理ガスの温度、濃度を測定する方法 | 2022年11月25日 | |
| 特開 2022-175009 | 基板処理方法、記憶媒体、及び基板処理装置 | 2022年11月25日 | |
| 特開 2022-174633 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2022年11月24日 | |
| 特開 2022-174626 | 基板処理システム及び環状部材の高さ推定方法 | 2022年11月24日 |
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2022-178272 2022-178406 2022-179048 2022-178748 2022-179698 2022-179327 2022-177274 2022-176155 2022-175767 2022-175640 2022-175031 2022-175030 2022-175009 2022-174633 2022-174626
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