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東京エレクトロン株式会社

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  2022年 出願公開件数ランキング    第25位 842件 上昇2021年:第33位 878件)

  2022年 特許取得件数ランキング    第38位 690件 上昇2021年:第45位 515件)

(ランキング更新日:2024年11月22日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特開 2022-186347 基板処理装置及び基板処理方法 2022年12月15日
特開 2022-186429 情報処理装置、移載位置補正方法及び基板処理装置 2022年12月15日
特開 2022-185240 基板処理方法及び基板処理装置 2022年12月14日
特開 2022-185241 プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 2022年12月14日
特開 2022-185393 半導体製造装置及び温度制御方法 2022年12月14日
特開 2022-185394 情報処理装置、シミュレーション方法及び情報処理システム 2022年12月14日
特開 2022-185462 温度制御装置および基板処理装置 2022年12月14日
特開 2022-185475 基板処理装置及び基板処理方法 2022年12月14日
特開 2022-185487 成膜方法及び成膜装置 2022年12月14日
特開 2022-185488 成膜方法及び成膜装置 2022年12月14日
特開 2022-185570 シャワーヘッド、電極ユニット、ガス供給ユニット、基板処理装置及び基板処理システム 2022年12月14日
特開 2022-183969 成膜方法および成膜装置 2022年12月13日
特開 2022-184029 アライメント方法及び検査装置 2022年12月13日
特開 2022-184046 外周塗布方法、基板処理装置及び記憶媒体 2022年12月13日
特開 2022-184132 プラズマ処理装置 2022年12月13日

846 件中 31-45 件を表示

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2022-186347 2022-186429 2022-185240 2022-185241 2022-185393 2022-185394 2022-185462 2022-185475 2022-185487 2022-185488 2022-185570 2022-183969 2022-184029 2022-184046 2022-184132

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