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東京エレクトロン株式会社

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 ■ 2022年 出願公開件数ランキング    第25位 842件 (上昇2021年:第34位 765件)

 ■ 2022年 特許取得件数ランキング    第38位 690件 (上昇2021年:第45位 515件)

(ランキング更新日:2026年10月9日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特開 2022-181830 プラズマ処理装置 2022年12月 8日
特開 2022-181680 膜厚推定方法、記憶媒体、及び基板処理装置 2022年12月 8日
特開 2022-181631 流体の流れを制御する装置、断面形状可変流路の製造方法、基板を処理する装置及び流体の流れを制御する方法 2022年12月 8日
特開 2022-181592 カップ、液処理装置及び液処理方法 2022年12月 8日
特開 2022-181057 処理システム、管理装置およびログ取得方法 2022年12月 7日
特開 2022-180712 研削装置、研削装置の制御方法、及び記憶媒体 2022年12月 7日
特開 2022-180713 集塵機、集塵機を備える処理システム、及び集塵方法 2022年12月 7日
特開 2022-180847 基板処理装置および基板処理方法 2022年12月 7日
特開 2022-180785 クリーニング方法及びプラズマ処理装置 2022年12月 7日
特開 2022-179884 熱処理装置及び熱処理方法 2022年12月 6日
特開 2022-180163 接合装置、及び接合方法 2022年12月 6日
特開 2022-180443 基板処理装置および基板処理方法 2022年12月 6日
特開 2022-178406 温度制御方法及び温度制御装置 2022年12月 2日
特開 2022-178272 プラズマ処理装置 2022年12月 2日
特開 2022-178875 成膜装置の制御装置及び制御方法 2022年12月 2日

846 件中 61-75 件を表示

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2022-181830 2022-181680 2022-181631 2022-181592 2022-181057 2022-180712 2022-180713 2022-180847 2022-180785 2022-179884 2022-180163 2022-180443 2022-178406 2022-178272 2022-178875

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