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東京エレクトロン株式会社
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（
2024年：第27位 725件）
■ 2025年 特許取得件数ランキング 第19位 575件
（
2024年：第25位 802件）
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7727792 | プラズマ処理システム及びエッジリングの交換方法 | 2025年 8月21日 | |
| 特許 7727795 | 基板処理システム | 2025年 8月21日 | |
| 特許 7727858 | 静電チャック及び基板処理装置 | 2025年 8月21日 | |
| 特許 7727860 | プラズマ処理装置、電源システム、及び周波数制御方法 | 2025年 8月21日 | |
| 特許 7727869 | 基板処理方法及び基板処理システム | 2025年 8月21日 | |
| 特許 7726109 | 液体を貯留する装置、基板を処理するシステム、及び液位を特定する方法 | 2025年 8月20日 | |
| 特許 7726335 | マグネトロンスパッタ装置及びマグネトロンスパッタ方法 | 2025年 8月20日 | |
| 特許 7726611 | 基板処理装置、研磨パッド検査装置、及び研磨パッド検査方法 | 2025年 8月20日 | |
| 特許 7726615 | 基板処理装置及び基板処理方法 | 2025年 8月20日 | |
| 特許 7726616 | 半導体製造装置及び処理モジュール | 2025年 8月20日 | |
| 特許 7726746 | 基板処理システム | 2025年 8月20日 | |
| 特許 7725267 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 | 2025年 8月19日 | |
| 特許 7725276 | 基板保持具及び基板処理装置 | 2025年 8月19日 | |
| 特許 7725306 | 基板処理システム及びガス計測方法 | 2025年 8月19日 | |
| 特許 7725307 | 基板処理装置 | 2025年 8月19日 |
35 件中 16-30 件を表示
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7727792 7727795 7727858 7727860 7727869 7726109 7726335 7726611 7726615 7726616 7726746 7725267 7725276 7725306 7725307
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